[发明专利]玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法

说明书

本发明公开了玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，涉及LCD加工处理技术领域。在本发明中：吹风通道内配置有上出风装置和下出风装置，吹风通道内配置有位于上出风装置上游方位的第一位置传感器。吸尘通道内配置有上吸尘装置和下吸尘装置。光检装置下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构，光检装置的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构之间的远离处光度传感器，光检通道内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置。本发明不仅能有效的完成对抛光后的玻璃基板的抛光粉清除，也避免了玻璃基板进入中和处理通道后因用酸过量所导致的过度腐蚀，保证了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。

技术领域

本发明属于LCD加工处理技术领域，特别是涉及玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法。

背景技术

玻璃基板在抛光后，表面会残留大量的抛光粉，难以祛除。目前，主要通过碱性液体高温浸泡的方式祛除，成本高。抛光粉大多属于中性/碱性，PH值为7-9之间，碱性残留物，而现有技术中使用弱酸性残留物予以祛除弱碱性的抛光粉，效果比高温浸泡的方式好。所以采用弱酸清洗方式进行玻璃基板的抛光粉越来越普及。

而采用弱酸清洗方式对玻璃基板的抛光粉进行祛除过程中，若是用酸喷酸量太多，不仅会中和掉玻璃基板上的抛光粉，也会对玻璃基板造成一定的损伤。但要是用酸喷酸量不足，酸碱中和效果就会降低，导致抛光粉碱性消除不彻底。

发明内容

本发明的目的在于提供玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，不仅能有效的完成对抛光后的玻璃基板的抛光粉清除，也避免了玻璃基板进入中和处理通道后因用酸过量所导致的过度腐蚀，保证了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明为玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，包括吹风通道，吹风通道下游连通有吸尘通道，吸尘通道下游连通有光检通道，光检通道下游连通有中和处理通道；吹风通道、吸尘通道、光检通道和中和处理通道内都配置有由外界动力装置驱动转动的导辊结构。

吹风通道内配置有上出风装置和下出风装置，上出风装置和下出风装置都开设有朝向导辊结构的斜向出风口，吹风通道内配置有位于上出风装置上游方位的第一位置传感器，吹风通道内设置有位于上出风装置下游方位的第二位置传感器。吸尘通道内配置有上吸尘装置和下吸尘装置，上吸尘装置和下吸尘装置都设置有朝向导辊结构的吸尘口。

光检通道内配置有光检装置，光检装置下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构，光检装置下侧面设置有位于曝光度检测机构下游的第三位置传感器，光检装置的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构之间的远离处光度传感器，光检通道内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置。中和处理通道内独立配置有第一水箱、第二水箱、第三水箱，中和处理通道内配置有与第一水箱相配合的第一清洗舱，中和处理通道内配置有与第二水箱相配合的毛刷清洗舱，中和处理通道内配置有与第三水箱相配合的纯水喷淋舱，中和处理通道内配置有一级风刀干燥舱、二级风刀干燥舱[一级风刀干燥舱内的风力风干强度大于二级风刀干燥舱内的风力风干强度]。

作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：上出风装置和下出风装置的斜向出风口的倾斜方向都偏向吸尘通道。

作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：吸尘通道内设置有位于上吸尘装置、下吸尘装置下游的下游挡板，导辊结构横向穿过上下侧的下游挡板之间。

作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：光检装置的下侧面边缘区域设置有内面反光框板，内面反光框板的内侧壁面涂覆有反光材料层。