[发明专利]电气部件及其形成方法在审
申请号: | 202110862025.2 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN114068186A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | M·R·布尼;J·霍斯克肖特 | 申请(专利权)人: | 美敦力公司 |
主分类号: | H01G9/025 | 分类号: | H01G9/025;H01G9/04;H01G9/042;H01G9/048;H01G9/07;H01G9/15;A61N1/375;A61N1/39 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 杨昀;余颖 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电气 部件 及其 形成 方法 | ||
1.一种电气部件,其包括:
衬底,其包括第一主表面和第二主表面;
合金层,其设置在所述衬底的所述第一主表面上;
钽材料,其设置在所述合金层上,使得所述合金层位于所述钽材料与所述衬底的所述第一主表面之间,所述钽材料包括粘合的钽颗粒;
介电层,其设置在所述粘合的钽颗粒上;
阴极电极,其设置在所述钽材料上方;和
阳极电极,其设置在所述衬底的所述第二主表面上。
2.根据权利要求1所述的电气部件,还包括设置在所述钽材料与所述阴极电极之间的电解质阴极层。
3.根据权利要求2所述的电气部件,其中所述阳极电极包括:
设置在所述电解质阴极层上的阴极连接层;以及
位于所述阴极连接层上的阴极导体层。
4.根据权利要求1所述的电气部件,其中所述介电层包括五氧化二钽(Ta2O5)。
5.根据权利要求1所述的电气部件,还包括设置在所述电气部件的至少一侧上的电介质,其中所述电气部件的所述至少一侧与所述衬底的所述第一主表面基本正交。
6.根据权利要求5所述的电气部件,其中所述电解质阴极层还设置在所述合金层的所述至少一侧与所述电介质之间。
7.根据权利要求1所述的电气部件,其中所述粘合的钽颗粒被烧结在一起。
8.根据权利要求1所述的电气部件,其中所述合金层包括衬底材料的浓度梯度。
9.根据权利要求1所述的电气部件,其中所述阳极电极包括:
设置在所述衬底的所述第二主表面上的阳极连接层;以及
位于所述阳极连接层上的阳极导体层。
10.根据权利要求1所述的电气部件,其中所述衬底包括掺杂的N型硅。
11.根据权利要求2所述的电气部件,其中所述电解质阴极层包括导电聚合物。
12.一种方法,其包括:
在衬底的第一主表面上设置粘附层;
将包括钽颗粒的钽材料设置在所述粘附层上;
粘合所述钽颗粒;
形成合金层;
设置穿过所述粘合的钽颗粒和所述合金层并进入所述衬底的沟槽以在所述衬底内形成凹陷表面;以及
在所述衬底的第二主表面上设置阳极电极。
13.根据权利要求12所述的方法,还包括在所述粘合的钽颗粒上设置介电层。
14.根据权利要求13所述的方法,还包括将电解质阴极层设置在所述介电层上、在所述钽材料上方并进入所述沟槽中。
15.根据权利要求14所述的方法,还包括在所述电解质阴极层上设置阴极电极。
16.根据权利要求15所述的方法,还包括设置穿过所述阴极电极、所述电解质阴极层和所述沟槽并进入所述衬底的第二沟槽以在所述衬底内形成第二凹陷表面。
17.根据权利要求16所述的方法,还包括在所述第二沟槽中设置电介质。
18.根据权利要求17所述的方法,还包括在设置所述阳极电极之前去除所述衬底的所述第二主表面的一部分以暴露所述电介质。
19.根据权利要求18所述的方法,还包括切穿所述电介质和所述阳极电极。
20.根据权利要求12所述的方法,其中形成所述合金层包括烧结所述衬底和所述粘附层。
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