[发明专利]一种基于光学干涉效应的单片式场序投影显示系统在审
申请号: | 202110864807.X | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN113552762A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 仝召民;高权 | 申请(专利权)人: | 山西大学 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1343 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张影 |
地址: | 030006 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 光学 干涉 效应 单片 式场序 投影 显示 系统 | ||
1.一种基于光学干涉效应的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述单片式场序投影显示系统包括:
激光源,所述激光源用于出射激光;
匀场整形组件,所述匀场整形组件用于对所述激光进行匀场和整形处理;
导光组件,所述导光组件用于将所述匀场整形组件处理后的激光以特定角度导入至显示芯片内部;
所述显示芯片用于对激光进行亮度调制;
投影组件,所述投影组件用于将所述显示芯片处理后的激光投射至屏幕上。
2.根据权利要求1所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述激光源包括:第一颜色激光源、第二颜色激光源和第三颜色激光源;
其中,所述第一颜色激光源用于出射红色激光;
所述第二颜色激光源用于出射绿色激光;
所述第三颜色激光源用于出射蓝色激光。
3.根据权利要求2所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述第一颜色激光源、所述第二颜色激光源和所述第三颜色激光源的谱线宽度均小于2nm。
4.根据权利要求2所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述匀场整形组件包括:第一匀场整形单元、第二匀场整形单元和第三匀场整形单元;
其中,所述第一匀场整形单元用于对所述红色激光进行匀场和整形处理;
所述第二匀场整形单元用于对所述绿色激光进行匀场和整形处理;
所述第三匀场整形单元用于对所述蓝色激光进行匀场和整形处理。
5.根据权利要求4所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述导光组件包括:第一导光单元和第二导光单元;
其中,所述第一导光单元用于将所述红色激光、所述绿色激光和所述蓝色激光以不同的角度导入所述显示芯片;
所述显示芯片用于对所述红色激光、所述绿色激光和所述蓝色激光进行亮度调制,经过所述第一导光单元或所述第二导光单元被所述投影组件所收集。
6.根据权利要求5所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述红色激光入射至所述显示芯片的入射角度为0°-60°;
所述绿色激光入射至所述显示芯片的入射角度为0°-60°;
所述蓝色激光入射至所述显示芯片的入射角度为0°-60°。
7.根据权利要求5所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述显示芯片包括:
相对设置的第一透明基板和第二透明基板;
设置在所述第一透明基板和所述第二透明基板之间的液晶层;
设置在所述第一透明基板和所述液晶层之间的第一配向层,设置在所述第二透明基板和所述液晶层之间的第二配向层;
设置在所述第一透明基板和所述第一配向层之间的第一导电电极,设置在所述第二透明基板和所述第二配向层之间的第二导电电极;
设置在所述第一导电电极和所述第一配向层之间的第一介质膜反射镜,设置在所述第二导电电极和所述第二配向层之间的第二介质膜反射镜。
8.根据权利要求7所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述液晶层的厚度为100nm-900nm。
9.根据权利要求7所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述液晶层的折射率变化范围为1.5-1.8。
10.根据权利要求7所述的单片式场序投影显示系统,其特征在于,所述第一介质膜反射镜和所述第二介质膜反射镜的反射率范围为40%-99%。
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