[发明专利]显示面板及其制备方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110864897.2 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113594217A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 马一鸿;丁立薇;王留洋;胡友;马少龙;李锋 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 范坤坤
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明实施例公开了一种显示面板及其制备方法和显示装置,显示面板包括:显示基层,包括第一显区和第二显示区,第一显示区的光透过率小于第二显示区的光透过率;偏光层,位于显示基层的出光侧,包括位于第一显示区的第一偏光层和位于第二显示区的第二偏光层;其中,显示基层包括光反射层,在暗态情况下,外界光经第一偏光层和第一显示区内光反射层反射后反射光通量与经第二偏光层和第二显示区内光反射层反射后反射光通量的比值范围包括0.9‑1.1,提高了在熄屏状态下显示面板整体显示亮度的一致性。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

随着科技的快速发展,为提升使用体验,全面屏的手机成为发展趋势。目前的全面屏手机存在熄屏状态下,副屏(摄像头区域)与主屏(副屏周边显示区)存在亮度不一致的问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法和显示装置,以提高在熄屏状态下显示面板整体显示亮度的一致性。

第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,所述显示面板包括:

显示基层,所述显示基层包括第一显示区和第二显示区;

偏光层,所述偏光层位于显示基层的出光侧,所述偏光层包括位于第一显示区的第一偏光层以及位于第二显示区的第二偏光层;

其中,所述显示基层包括光反射层,在暗态情况下,外界光经所述第一偏光层和第一显示区内光反射层反射后反射光通量与经所述第二偏光层和第二显示区内光反射层反射后反射光通量的比值在0.9-1.1范围内。

其中,位于第一显示区中单位面积内光反射层的有效反射面积大于位于第二显示区中单位面积内光反射层的有效反射面积;经第一偏光层入射到第一显示区的环境光经位于第一显示区的光反射层反射后通过第一偏光层出射的出射率,小于经第二偏光层入射到第二显示区的环境光经位于第二显示区的光反射层反射后通过第二偏光层出射的出射率。

其中,所述第一显示区内光反射层的整体光反射率大于所述第二显示区内光反射层的整体光反射率。

可选的,第一偏光层用于将环境光转换为圆偏振光;第二偏光层用于将环境光转换为椭圆偏振光。

可选的,第一偏光层包括第一线偏层和第一1/4波片层,所述第一1/4波片层位于所述第一线偏层邻近所述显示基层的一侧,所述第一线偏层的偏振方向和所述第一1/4波片层的光轴方向的夹角等于45°;

第二偏光层包括第二线偏层和第二1/4波片层,所述第二1/4波片层位于所述第二线偏层邻近所述显示基层的一侧,所述第二线偏层的偏振方向和所述第二1/4波片层的光轴方向的夹角小于45°。

可选的,第一线偏层的偏振方向与第二线偏层的偏振方向相同;或者,第一1/4波片层的光轴方向与第二1/4波片层的光轴方向相同。

可选的,所述第一1/4波片层和所述第二1/4波片层的材料均包括双折射的液晶材料;所述第一线偏层的材料和所述第二线偏层的材料均包括二色性的液晶材料。

可选的,所述显示基层包括发光结构和驱动发光结构发光的驱动电路,所述驱动电路包括金属层,所述光反射层为所述金属层。

第二方面,本发明实施例提供了一种显示面板的制备方法,包括:

提供显示基层,所述显示基层包括第一显示区和第二显示区,所述第一显示区的光透过率小于所述第二显示区的光透过率;

于显示基层的出光侧形成偏光层;所述偏光层包括位于第一显示区的第一偏光层以及位于第二显示区的第二偏光层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥维信诺科技有限公司,未经合肥维信诺科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110864897.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top