[发明专利]一种电磁分离式镀膜装置及方法

权利要求书

1.一种电磁分离式镀膜装置，其特征在于，包括主真空腔体,所述主真空腔体的前后两侧均开设有真空腔体门,前后两个所述真空腔门体的正中位置均设置有一组磁控溅射靶，两组所述磁控溅射靶对称设置；所述主真空腔体的左右两侧外壁上对称设有两组离子源,每组所述离子源的两侧分别对称设有两组磁感线圈；所述主真空腔体的顶部连接有真空泵组,所述主真空腔体内底部安装有工件架，所述工件架用于安装待沉积样件；所述主真空腔体内还安装有辅助阳极。

2.根据权利要求1所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述主真空腔体为750mmx6750mmx850mm的长方体腔体。

3.根据权利要求2所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述辅助阳极采用阳极杆，所述主真空腔体内四个角处均安装有所述阳极杆。

4.根据权利要求3所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述阳极杆连接有可调正偏压电源，所述可调正偏压电源的电压为0-500V。

5.根据权利要求1所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述真空腔门体采用蚌式侧开门。

6.根据权利要求1所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述离子源连接有可调电源，所述可调电源的电压为0-2000V、频率为20KHz,所述可调电源能够提供直流对称脉冲电源,所述直流对称脉冲电源的电源波形为正弦波或矩形波。

7.根据权利要求6所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：每个所述离子源两侧相对的所述电磁线圈均由一组直流/直流对称脉冲电源供电,所述直流/直流对称脉冲电源的电源波形为正弦波或矩形波。

8.根据权利要求1所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述磁控溅射靶安装于所述真空腔体门背离所述主真空腔体的一侧，所述磁控溅射靶连接有20KW微脉冲磁控溅射电源,脉冲占空比50％。

9.根据权利要求1所述的电磁分离式镀膜装置，其特征在于：所述工件架采用行星公转装置。

10.一种电磁分离式镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将被沉积样件清洗干净，安装在工件架上，对主真空腔体进行抽真空；

步骤二、设置工件架的转速，主真空腔体内充入氩气至设定压力；

步骤三、打开与离子源相连的可调电源，打开电磁线圈电源；

步骤四、使加在被沉积样件上的偏压电源保持设定电压，氩离子对被沉积样件轰击清洗；

步骤五、打开磁控溅射靶的电源，Ti金属离子注入沉积设定时间；

步骤六、调整偏压，沉积金属Ti；

步骤七、通入氮气，沉积氮化钛；

步骤八、关闭电磁分离式镀膜装置，冲入氮气，待主真空腔体内降到设定温度，再充入空气，打开主真空腔体，取出被沉积样件。