[发明专利]一种水质传感器的自清洗控制系统及方法

说明书

本发明公开了一种水质传感器的自清洗控制系统及方法，在本发明中实现了对水质传感器的在线式自动清洁，这使得系统在对水质传感器进行清洗的过程中避免了水质传感器的检测值会受到干扰，本发明提出了水质传感器的两种清洁模式，分别是周期模式和清洁度模式，与此同时提出了一种模式推荐的方法；通过计算和分析水质传感器的一些历史使用记录信息和水质传感器自身的性能状态为其提供了最优模式推荐，在不需要对水质传感器提出最优模式推荐时为其分别计算两种不同模式的推荐度，以供用户参考做出模式选择；在清洁过程中还通过对以往的数据进行利用和分析，保证清洁药剂的剂量做到符合清洁度所需要的定量。

技术领域

本发明涉及自动化控制技术领域，具体为一种水质传感器的自清洗控制系统及方法。

背景技术

在越来越看重环境保护的今天，水质传感器对于一些行业来讲是必不可少的,比如说工业废水大部分检测的是重金属含量，饮用水厂可能就需要检测微生物、有机物、重金属、消毒剂等多种参数,而这些参数的检测工作主要是由水质检测仪的各种水质传感器来完成的,虽然水质传感器为我们的检测工作带来了很大的便利，但是由于应用场合的关系，水质传感器经常会被水中的杂质污染、附着，严重影响水质传感器的正常测量工作,为了更准确的测量，目前通用的方法是安排专人对安装在现场的水质传感器进行定期的拆卸、清洗，保证水质传感器在一定时间内的清洁；但是也会带来一些不好的影响：由于是人工操作，受各种因素的影响，清洗周期的间隔一般都会有一段时间的浮动，不会很稳定，从而会导致因水质传感器清洗不及时引起的数据测量不准确的情况；在清洁过程中清洁药剂剂量的放置，由于是在现场进行清洗，没有较为精准的计量工具，只能凭感觉进行添加，会导致药剂添加过多或过少，过多会造成浪费，过少清洗不干净；影响正常的生产节奏，由于水质传感器要拆卸下来进行清洗，就必须对当前管路进行关阀处理，当前工段在清洗期间就不能正常工作；操作人员的健康安全问题，由于应用的环境的关系，当进行拆卸清洗的时候，比较容易接触到污水和闻到带有刺激性或有毒的气体。

基于上述问题，亟于提出一种水质传感器的自清洗控制系统及方法，在本发明中实现了对水质传感器的在线式自动清洁，这使得系统在对水质传感器进行清洗的过程中避免了水质传感器的检测值会受到干扰，本发明提出了水质传感器的两种清洁模式，分别是周期模式和清洁度模式，与此同时提出了一种模式推荐的方法；通过计算和分析水质传感器的一些历史使用记录信息和水质传感器自身的性能状态为其提供了最优模式推荐，在不需要对水质传感器提出最优模式推荐时为其分别计算两种不同模式的推荐度，以供用户参考做出模式选择；在清洁过程中还通过对以往的数据进行利用和分析，保证清洁药剂的剂量做到符合清洁度所需要的定量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种水质传感器的自清洗控制系统及方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种水质传感器的自清洗控制系统，，系统包括：模式数据库、模式推荐模块、模式切换模块、清洁数据库、原始药剂库、安保模块；

模式数据库用于存储在系统中水质传感器的历史模式选择记录以及水质传感器自身的性能状态信息；

模式推荐模块用于系统对水质传感器进行清洗模式推荐；

模式切换模块用于显示模式推荐模块得到的最佳推荐模式或者不同模式的不同推荐度；用户可将得到的最佳推荐模式按自己的意愿进行模式更改，或者用户可参考不同模式的不同推荐度完成最终模式的自主选择；

清洁数据库用于存储系统在过去历史记录中对水质传感器所选用的不同模式的不同选用次数及其对应天数、存储水质传感器的设备报警停机次数及其对应天数、存储水质传感器历史使用次数及其对应天数；

原始药剂库用于存储预先录入的常见的清洁度值及清洁度值对应下的清洁药剂药量；

进一步的，模式推荐模块包括优先预判单元、最佳模式分析单元、模式推荐度计算单元；