[发明专利]一种镜头阴影校正的方法、装置及存储介质在审

专利信息
申请号: 202110869081.9 申请日: 2021-07-30
公开(公告)号: CN113592739A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 刘磊;朱飞月;王建淼 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/40;G06T7/90
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 李静文
地址: 310053 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 镜头 阴影 校正 方法 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种镜头阴影校正的方法,其特征在于,应用于计算设备,该方法包括:

基于预选图像中各颜色通道的像素点的像素值,确定色阶直方图,其中,所述颜色通道包括R通道、G通道和B通道;

针对任意一个颜色通道,基于所述色阶直方图在所述任意一个颜色通道的所述像素值和拍摄所述预选图像使用的相机参数,确定所述颜色通道的有效像素范围值;以及,将所述颜色通道中不符合所述有效像素范围值的像素值,按照所述有效像素范围值进行调整,得到调整后的像素值;

将同一个所述颜色通道中未调整像素值的像素点和调整像素值的像素点进行融合,得到所述颜色通道对应的通道图像;

将各所述颜色通道对应的通道图像进行融合,得到目标图像。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于预选图像中各颜色通道的像素点的像素值,确定色阶直方图之前,还包括:

通过相机拍摄所述预选图像,以及,获取用于确定所述预选图像使用的相机参数的相机的型号,其中,所述预选图像为包含均匀介质的图像。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述预选图像为白板图像。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于预选图像中各颜色通道的像素点的像素值,确定色阶直方图,包括:

针对任意一个颜色通道,提取所述预选图像中所述任意一个颜色通道中包含的各个像素点的像素值;分别确定所述各个像素点属于各个像素阈值区间的数量,其中,所述各个像素阈值区间为预先划分出来的连续范围区间;以及,基于所述各个像素阈值区间和确定的数量,确定所述任意一个颜色通道对应的通道直方图,其中,所述通道直方图用于描述所述任意一个颜色通道的像素点的像素值分布情况;

将不同颜色通道的所述通道直方图进行叠加,得到所述色阶直方图。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述针对任意一个颜色通道,基于所述色阶直方图在所述任意一个颜色通道的所述像素值和拍摄所述预选图像使用的相机参数,确定所述颜色通道的有效像素范围值,包括:

针对任意一个颜色通道,从所述色阶直方图在所述任意一个颜色通道的所述像素值中筛选出最大像素值;

根据所述最大像素值,计算所述预选图像的最大亮度值;并基于所述相机参数、所述最大像素值和所述最大亮度值,计算所述任意一个颜色通道对应的最小像素值;以及,基于所述最大像素值和所述最小像素值,确定所述任意一个颜色通道对应的所述有效像素范围值。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将同一个所述颜色通道中未调整像素值的像素点和调整像素值的像素点进行融合,得到所述颜色通道对应的通道图像,包括:

针对任意一个颜色通道,将所述预选图像中所述任意一个颜色通道中未调整像素值的像素点和所述调整像素值后的所述任意一个颜色通道中的像素点进行加权处理,得到所述任意一个颜色通道对应的通道图像。

7.一种镜头阴影校正的装置,其特征在于,包括:

确定模块,用于基于预选图像中各颜色通道的像素点的像素值,确定色阶直方图,其中,所述颜色通道包括R通道、G通道和B通道;

调整模块,用于针对任意一个颜色通道,基于所述色阶直方图在所述任意一个颜色通道的所述像素值和拍摄所述预选图像使用的相机参数,确定所述颜色通道的有效像素范围值;以及,将所述颜色通道中不符合所述有效像素范围值的像素值,按照所述有效像素范围值进行调整,得到调整后的像素值;

第一融合模块,用于将同一个所述颜色通道中未调整像素值的像素点和调整像素值的像素点进行融合,得到所述颜色通道对应的通道图像;

第二融合模块,用于将各所述颜色通道对应的通道图像进行融合,得到目标图像。

8.一种终端,其特征在于,包括:

存储器,用于存储可执行指令;

处理器,用于读取并执行所述存储器中存储的可执行指令,以实现如权利要求1-6任一项所述的方法。

9.一种计算机可读存储介质,其特征在于,当所述存储介质中的指令由处理器执行时,使得所述处理器能够执行如权利要求1-6任一项所述的方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大华技术股份有限公司,未经浙江大华技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110869081.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top