[发明专利]一种减反膜、显示装置

说明书

本申请提供了一种减反膜、显示装置，涉及显示技术领域。该减反膜包括：第一折射层和第二折射层；其中，所述第一折射层的折射率大于所述第二折射层的折射率，且所述第一折射层中的材料和所述第二折射层中的材料的晶格失配度小于或等于预设值。该减反膜具有较低的反射率，且能够在不影响透过率的情况下降低显示装置中膜层界面的反射率，提高显示效果。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种减反膜、显示装置。

背景技术

随着显示技术的快速发展，OLED(Organic Light Emitting Device，有机发光二极管)显示产品由于其具有自发光、功耗小、响应快等特点，引起人们的广泛关注。然而，OLED中的出光侧电极通常采用金属材料制作，金属材料具有较高的反射率，严重降低了OLED显示产品的显示效果。

相关技术中通过在OLED显示产品中设置减反膜来降低反射率，相关技术中的减反膜均通过调整厚度和减反膜中材料的折射率以匹配不同的显示产品，然而，并未考虑减反膜中的微观缺陷对光学特性的负面影响。

目前，亟需一种新的减反膜，以解决上述问题。

发明内容

本申请的实施例提供了一种减反膜、显示装置，该减反膜具有较低的反射率，且能够在不影响透过率的情况下降低显示装置中膜层界面的反射率，提高显示效果。

为达到上述目的，本申请的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供了一种减反膜，包括：第一折射层和第二折射层；

其中，所述第一折射层的折射率大于所述第二折射层的折射率，且所述第一折射层中的材料和所述第二折射层中的材料的晶格失配度小于或等于预设值。

在一些实施例中，所述预设值范围为0.6％-1％。

在一些实施例中，所述第一折射层包括第一子层和第二子层，所述第二子层位于所述第一子层和所述第二折射层之间；

其中，所述第二折射层的材料的晶格常数值位于所述第一子层和所述第二子层的材料的晶格常数值之间。

在一些实施例中，所述第一折射层中的材料和所述第二折射层中的材料中，每两个材料之间的晶格常数之差的绝对值的范围为0-0.08nm。

在一些实施例中，所述第一子层的材料包括氧化锆，所述第二子层的材料包括氧化钛，所述第二折射层的材料包括氧化硅或氟化镁。

在一些实施例中，在所述第一折射层的材料包括氧化钛和氧化锆的情况下，所述第一折射层的材料的折射率范围为2.11-2.25；

在所述第二折射层的材料包括氧化硅的情况下，所述第二折射层的材料的折射率范围为1.46-1.47；

在所述第二折射层的材料包括氟化镁的情况下，所述第二折射层的材料的折射率范围为1.37-1.38。

在一些实施例中，所述第一折射层中氧化钛的晶格常数为0.458nm，所述第一折射层中氧化锆的晶格常数为0.511nm。

在一些实施例中，在所述第二折射层的材料包括氧化硅的情况下，所述第二折射层中的氧化硅的晶格常数为0.491nm；所述第二折射层的材料包括氟化镁的情况下，所述第二折射层中的氟化镁的晶格常数为0.460nm。

在一些实施例中，所述第一子层的厚度范围为20nm-60nm，所述第二子层的厚度范围为10nm-30nm，所述第二折射层的厚度范围为70nm-130nm。

另一方面，提供了一种显示装置，包括：基底，以及位于所述基底上的发光器件和如上所述的减反膜；所述减反膜位于所述发光器件远离所述基底的一侧；