[发明专利]用于负性光刻胶的聚酰亚胺树脂及包含其的负性光刻胶

权利要求书

1.负性光刻胶，其特征在于，按重量份计，其包括：

100重量份的溶剂；

10-30重量份的用于负性光刻胶的聚酰亚胺树脂；

1-10重量份的光致产酸剂；和

0.1-2重量份的助剂；

其中所述聚酰亚胺树脂具有下式I的化学结构：

其中，x为0.05-0.95；n为5-200；

Ar₁、Ar₂各自独立地选自下组：

R₁选自下组：

R₃选自单键、氧原子、硫原子、苯环、亚甲基、羰基、砜基、异丙基或三氟异丙基；

R₂选自下组：

2.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于，按重量份计，其包括：

100重量份的溶剂；

15-25重量份的用于负性光刻胶的聚酰亚胺树脂；

1-9重量份的光致产酸剂；和

0.1-1重量份的助剂。

3.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述x为0.4-0.7。

4.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述n为8-60。

5.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述聚酰亚胺树脂的化学结构为：

6.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、间甲酚、对甲酚、丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)和γ-丁内酯中的一种或多种。

7.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述光致产酸剂为可产生磺酸的产酸剂。

8.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述光致产酸剂选自硫鎓盐、碘鎓盐、三嗪类物质、磺酸酯类化合物和对甲苯磺酸类衍生物中的一种或多种。

9.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述助剂选自增感剂、阻溶剂和酸猝灭剂中的一种或多种。

10.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述助剂选自三乙醇胺、三戊胺和三正十二胺中的一种或多种。

11.用于负性光刻胶的聚酰亚胺树脂在制备负性光刻胶中的用途，其中所述聚酰亚胺树脂具有下式I的化学结构：

其中，x为0.05-0.95；n为5-200；

Ar₁、Ar₂各自独立地选自下组：

R₁选自下组：

R₃选自单键、氧原子、硫原子、苯环、亚甲基、羰基、砜基、异丙基或三氟异丙基；

R₂选自下组：

12.根据权利要求11所述的用途，其特征在于，所述x为0.4-0.7。

13.根据权利要求11所述的用途，其特征在于，所述n为8-60。

14.根据权利要求11所述的用途，其特征在于，所述聚酰亚胺树脂的化学结构为：