[发明专利]一种新型三维中空形光场生成方法与装置在审
申请号: | 202110886687.3 | 申请日: | 2021-08-03 |
公开(公告)号: | CN113703170A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 朱大钊;丁晨良;匡翠方;徐良;李海峰;刘旭 | 申请(专利权)人: | 之江实验室;浙江大学 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B27/28 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 孙孟辉 |
地址: | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 三维 中空 形光场 生成 方法 装置 | ||
本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置,属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至,在转化成圆偏光,两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光,聚焦形成新型三维中空光场。该装置,包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM,第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF,并且利用SLM的偏振选择特性,可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化,采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
技术领域
本发明属于光学工程领域,特别涉及一种新型三维中空光场生成装置。
背景技术
三维中空形光场(3D Hollow Light Field,以下简称“3D HLF”)是一种中心区域光场为零或强度较低而外围被高强度光场包围的聚焦光场。这种3D HLF在诸多领域中有着极为广泛的应用,如光学测量、激光加工制造、光学成像、光学跟踪等。特别是近年来提出的PPI激光直写技术,该技术是一项用于提升传统激光打印装置分辨率的技术,其利用另一束光形成空心光斑,抑制用于激光直写的实心光斑的作用区域,进而获得更高的特征尺寸,提高打印分辨率。此外,在光学超分辨技术中,基于点扫描成像系统的STED技术(stimulatedemision depletion)和FED技术(fluorescence emission difference)都用到了中空形光场。STED技术通过空心光场抑制荧光发光区域,减小系统点扩散函数(PSF),进而提升分辨率。而FED技术通过二次成像,在时空上等效的缩小系统的PSF,实现最终图像对比度和分辨率的提升。可以看出,虽然两种技术的原理不同,但是中空形光场是制约两者成像质量的关键因素。
当前3D HLF虽然得到广泛应用,技术方案逐渐成熟,但无法解决采用单路连续光产生3D HLF与光束相干引入缺陷的矛盾问题。本发明基于偏振原理,提出了一种产生新型3D HLF的装置,在一定程度上解决了上述问题,并可获得更高质量的3D HLF。
发明内容
本发明的目的是一种新型3D HLF生成方法。利用该方法,可以在单束光条件下产生高质量、无相干缺陷的3D HLF,可用于进一步提升双光子激光打印装置的分辨率和精度。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种新型三维中空形光场生成装置,沿光路依次包括:起偏器、1/2半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM、第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片,光束进入该装置后,经起偏器转化为线偏光,线偏光经过所述1/2波片之后光束由滤波透镜汇聚,在滤波透镜的焦面上设置滤波小孔,经过滤波小孔后的光束被准直透镜再次准直为平行光;
准直之后的平行光依次经过第一锥透镜和第二锥透镜,入射到DMD,光束被DMD反射至SLM左半屏幕上,再被反射至所述反射镜,被反射镜反射后入射到SLM右半屏幕上,光束在SLM和反射镜之间两次经过第一1/4波片,从SLM右半屏幕出射光束经过第二1/4波片。
进一步的,通过旋转1/2波片使s分量和p分量能量相同。
进一步的,所述滤波小孔用于滤除边缘杂散光,提高光束质量。
进一步的,所述第一锥透镜和第二锥透镜组成透镜组,用于调制光束能量分布,使其截面能量分布为环形。
进一步的,所述SLM左右半屏加载不同的相位图,左侧加载涡旋相位,右侧加载一个起始点随半径变化且旋向相反的涡旋相位。
进一步的,s光和p光被第二1/4波片12转化为旋向相反的圆偏光,并相干叠加,形成复杂偏振态分布的光束,该光束被聚焦后形成的3D HLF。
一种新型三维中空形光场生成方法,包括如下步骤:
步骤一、激光器发出的激光准直为平行光束;
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