[发明专利]一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖及其制备方法在审
申请号: | 202110887114.2 | 申请日: | 2021-08-03 |
公开(公告)号: | CN113603510A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 童垸林;刘交;郭雄;向细良;何维仁;钟贵平 | 申请(专利权)人: | 天欣科技股份有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C03C8/14;B28B11/00;B28B11/04;C09D11/30 |
代理公司: | 岳阳市大正专利事务所(普通合伙) 43103 | 代理人: | 皮维华 |
地址: | 414122 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 湿水止滑 抗菌 无光 陶瓷砖 及其 制备 方法 | ||
1.一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,包括有在坯体上施面釉、装饰图案、施止滑保护釉,然后烧成,其特征在于,在装饰图案之后喷熔剂墨水,在烧成后砖面进行刷抛,其中,所述面釉和所述止滑保护釉都添加有纳米复合抗菌剂。
2.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,其特征在于,熔剂墨水按质量百分比计,包含如下组分:碳酸钠15~20%,偏钒酸氨1~5%,分散剂8~12%,粘度调整剂0.1~0.5%,PH调整剂1~2%,表面活性剂0.2~0.5%,消泡剂1~2%,溶剂60~80%。
3.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述面釉按质量百分比计,由如下组分配成:哑光熔块10~20%,高岭土8~12%,煅烧高岭土5~10%,氧化锌1~3%,碳酸钡5~10%,烧滑石3~8%,方解石5~10%,钾长石20~35%,钠长石10~20%,纳米复合抗菌剂2~5%, STPP 0.1~0.3%,CMC 0.1~0.2%。
4.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖及其制备方法,其特征在于,所述止滑保护釉按质量百分比计,由如下组分配成:高温哑光熔块20~40%,高岭土7~15%,止滑粉10~20%,煅烧高岭土3~5%,氧化锌3~10%,碳酸钡5~10%,碳酸锶3~8%,烧滑石3~10%,钾长石5~20%,纳米复合抗菌剂3~8%,STPP:0.1~0.3%、CMC:0.1~0.2%。
5.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述在坯体上施面釉采用淋釉方式施釉,淋釉工艺参数为:比重为1.84~1.88g/cm³,重量为380~450g/㎡;或采用喷釉方式施釉,喷釉工艺参数为:比重为1.48~1.54g/cm³,重量为420~480g/㎡。
6.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述装饰图案为喷墨机喷墨打印,或一道或多道丝网印花,或一道或多道辊筒印花。
7.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述施止滑保护釉是采用喷釉方式施釉,喷釉工艺参数为:比重为1.20~1.30g/cm³,重量为100~180g/㎡。
8.根据权利要求1所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述烧成是在1190~1200度烧成,烧成时间50~60分钟。
9.一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖,其特征在于,由下而上依次为坯体、抗菌面釉层、图案层和止滑抗菌保护釉层,其中所述止滑抗菌保护釉层在瓷砖表面形成细小针状坚硬突出物,熔剂墨水在瓷砖釉面形成微小凹坑,在干燥时,手摸感觉和普通仿古砖一样细腻,在湿水时手摸有明显的涩手止滑效果,在干、湿两种情况下防滑指数都达到0.8以上。
10.根据权利要求9所述的一种湿水止滑抗菌无光陶瓷砖,其特征在于,抗菌效果符合JC/T897-2014《抗菌陶瓷制品抗菌性能》要求,且光泽度平均小于3°;同时釉面耐磨度可达到4级;耐污染性5级。
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