[发明专利]一种制备CsPbBr3 有效
申请号: | 202110890842.9 | 申请日: | 2021-08-04 |
公开(公告)号: | CN113668054B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | 刘勇;董顺洪 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C30B29/12 | 分类号: | C30B29/12;C30B25/02;C30B25/16 |
代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 孙迪 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 cspbbr base sub | ||
1.一种制备CsPbBr3单晶的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将CsBr和PbBr2混合并研磨得到混合物;
S2、将所述混合物放入双温区管式炉的上游区,将SiO2/Si基片放入双温区管式炉的下游区,在步骤S2中,将所述SiO2/Si基片放入第一石英管中,再将第一石英管放入所述双温区管式炉的下游区;并向双温区管式炉中通入惰性气体;所述混合物在双温区管式炉中反应得到所述CsPbBr3单晶;其中,所述上游区的温度为580~670℃,所述下游区的温度为300~380℃,双温区管式炉中的石英管的外径为80mm,所述第一石英管的外径为50mm;
在步骤S1中,CsBr和PbBr2的质量比为(0.05-1):(0.1-0.2);
在步骤S2中,所述惰性气体的流速为100-150mL/min。
2.根据权利要求1所述的制备CsPbBr3单晶的方法,其特征在于,在步骤S2之前,还包括清洗所述SiO2/Si基片:将SiO2/Si基片依次放于丙酮、乙醇和超纯水中超声处理。
3.根据权利要求2所述的制备CsPbBr3单晶的方法,其特征在于,将所述SiO2/Si基片放于所述丙酮、所述乙醇或者所述超纯水中超声处理的时间分别为20-30min。
4.根据权利要求1所述的制备CsPbBr3单晶的方法,其特征在于,在步骤S2中,所述惰性气体为氩气。
5.根据权利要求1所述的制备CsPbBr3单晶的方法,其特征在于,在步骤S2中,所述SiO2/Si基片的尺寸为1cm×1cm。
6.根据权利要求1所述的制备CsPbBr3单晶的方法,其特征在于,在步骤S2中,在所述双温区管式炉中的反应时间为20-30min。
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