[发明专利]具有超高电流密度的超导带材结构及其制备方法在审
申请号: | 202110891719.9 | 申请日: | 2021-08-04 |
公开(公告)号: | CN113611457A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 王玉山;周彬;王炷桥;张爱兵;迮建军;蔡渊 | 申请(专利权)人: | 东部超导科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01B12/06 | 分类号: | H01B12/06;H01L39/24;H01B13/00 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴;顾天乐 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 超高 电流密度 超导 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有超高电流密度的超导带材结构,其特征在于,包括超导层和设置在超导层两侧的稳定复合层,沿着距离超导层由近及远,稳定复合层包括层叠设置的银层和铜层。
2.根据权利要求1所述具有超高电流密度的超导带材结构,其特征是,稳定复合层上远离超导层一侧设有铠装层,铠装层采用金属材料和非金属材料中至少一种制成。
3.根据权利要求2所述具有超高电流密度的超导带材结构,其特征是,铠装层为紫铜带、黄铜带、不锈钢带中的一种。
4.一种具有超高电流密度的超导带材结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,在金属基带上生长缓冲层,在缓冲层上制作超导层,之后于超导层侧依次镀制银层和铜层;
S2,将金属基带和缓冲层一起从超导层上分离下来;
S3,在步骤S2分离后的超导层上远离铜层一侧依次镀制银层和铜层。
5.根据权利要求4所述制备方法,其特征是,在步骤S2分离后的缓冲层上重复步骤S1中的操作。
6.根据权利要求4所述制备方法,其特征是,步骤S1和步骤S3还包括在铜层上设置铠装层。
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