[发明专利]具有超高电流密度的超导带材结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110891719.9 申请日: 2021-08-04
公开(公告)号: CN113611457A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 王玉山;周彬;王炷桥;张爱兵;迮建军;蔡渊 申请(专利权)人: 东部超导科技(苏州)有限公司
主分类号: H01B12/06 分类号: H01B12/06;H01L39/24;H01B13/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 范晴;顾天乐
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 具有 超高 电流密度 超导 结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有超高电流密度的超导带材结构,其特征在于,包括超导层和设置在超导层两侧的稳定复合层,沿着距离超导层由近及远,稳定复合层包括层叠设置的银层和铜层。

2.根据权利要求1所述具有超高电流密度的超导带材结构,其特征是,稳定复合层上远离超导层一侧设有铠装层,铠装层采用金属材料和非金属材料中至少一种制成。

3.根据权利要求2所述具有超高电流密度的超导带材结构,其特征是,铠装层为紫铜带、黄铜带、不锈钢带中的一种。

4.一种具有超高电流密度的超导带材结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1,在金属基带上生长缓冲层,在缓冲层上制作超导层,之后于超导层侧依次镀制银层和铜层;

S2,将金属基带和缓冲层一起从超导层上分离下来;

S3,在步骤S2分离后的超导层上远离铜层一侧依次镀制银层和铜层。

5.根据权利要求4所述制备方法,其特征是,在步骤S2分离后的缓冲层上重复步骤S1中的操作。

6.根据权利要求4所述制备方法,其特征是,步骤S1和步骤S3还包括在铜层上设置铠装层。

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