[发明专利]光束模式处理装置

权利要求书

1.光束模式处理装置，其特征在于，包括通光材质制成的棱镜、透镜和载体，所述棱镜与所述透镜设置在同一光路上，并分别设置在所述载体上；

所述棱镜具有：

入射面，设置在所述棱镜的第一侧，

相位板面，设置在所述棱镜上与所述入射面相对的一侧，并在所述相位板面上设有多个模式转化结构，多个所述模式转化结构沿所述相位板面的长度方向均匀分布，用于形成不同模式的光束，

反光面，设置在所述棱镜上与所述相位板面相对的一侧，所述反光面和所述相位板面共同作用使得光束在棱镜内部经过多次反射形成具有多个模式的光束，

出射面，设置在所述棱镜的第二侧，并与所述入射面平行，所述出射面用于所述具有多个模式的光束射出所述棱镜；

所述透镜设置在所述入射面上或者所述出射面上。

2.根据权利要求1所述的光束模式处理装置，其特征在于，所述透镜为入射光接收准直透镜，所述入射光接收准直透镜设置在所述入射面上；或者，

所述透镜为出射光接收聚焦透镜，所述出射光接收聚焦透镜设置在所述出射面上；或者，

所述透镜包括入射光准直透镜和出射光聚焦透镜，所述入射光准直透镜设置在所述入射面上，所述出射光聚焦透镜设置在所述出射面上。

3.根据权利要求1或2所述的光束模式处理装置，其特征在于，还包括入射光源，所述入射光源设置在所述入射面的前端，使得所述入射光源射出的光束经所述准直透镜后垂直入射在所述入射面上。

4.根据权利要求3所述的光束模式处理装置，其特征在于，还包括光探测器，所述光探测器设置在所述出射面的前端，使得经过所述棱镜转化的出射光经所述聚焦透镜后射入所述光探测器。

5.根据权利要求1或2所述的光束模式处理装置，其特征在于，所述模式转化结构刻蚀在所述相位板面上。

6.根据权利要求5所述的光束模式处理装置，其特征在于，所述相位板面和/或所述反射面上设有光学增反膜。

7.根据权利要求1或2所述的光束模式处理装置，其特征在于，所述入射面和/或所述出射面，与所述棱镜的的端面之间具有倾角。

8.根据权利要求7所述的光束模式处理装置，其特征在于，所述入射面和所述出射面设置在所述棱镜的对角处。

9.根据权利要求1或2所述的光束模式处理装置，其特征在于，所述棱镜由多个通光块体组合形成，所述多个通光块体为一体成型结构或者通过相互粘接为一体式结构。

10.根据权利要求1或2所述的光束模式处理装置，其特征在于，相邻的所述模式转化结构之间的光程相等。