[发明专利]一种窑炉和玻璃生产方法

说明书

本发明实施例提供一种窑炉和玻璃生产方法，该窑炉包括：进料口，用于接收玻璃液样品；窑炉池，与进料口连通，窑炉池包括依次连接的生料区、加热区以及澄清区，窑炉池设置有烧枪和电极，烧枪和电极用于加热玻璃液样品，使得玻璃液样品转化为玻璃液；出料口，与窑炉池连通，用于排出所述玻璃液；根据生料区、加热区以及澄清区的温度变化趋势，调节烧枪和电极。该窑炉实现了炉内热点后移，促使炉内水平、垂直环流向后的方法，提高窑炉熔融温度达到超高温的生产需求，同时增强炉内后区澄清能力，解决气泡不良的问题。

技术领域

本发明涉及玻璃生产技术领域，具体地涉及一种窑炉和玻璃生产方法。

背景技术

随着科学技术的进步，TFT-LCD基板玻璃在市场上的占有率不断减少，取而代之的是生产技术水平更高、性能更好的超高温型玻璃。现有的玻璃窑炉在生产制造中存在以下几个问题：熔化温度达不到超高温的要求，无法满足新型超高温玻璃的生产。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种窑炉和玻璃生产方法，该窑炉具有更高的加热温度。所述窑炉包括：进料口，用于接收玻璃液样品；窑炉池，与所述进料口连通，所述窑炉池包括依次连接的生料区、加热区以及澄清区，所述窑炉池设置有烧枪和电极，所述烧枪和电极用于加热所述玻璃液样品，使得所述玻璃液样品转化为玻璃液；出料口，与所述窑炉池连通，用于排出所述玻璃液；根据所述生料区、所述加热区以及所述澄清区的温度变化趋势，调节所述烧枪和电极。

可选的，所述烧枪和电极分别位于窑炉池内壁的两侧。

可选的，所述生料区设置两个电极、两个烧枪；所述加热区设置两个电极、一个烧枪；所述澄清区设置一个电级和一个烧枪；调节所述生料区、加热区和澄清区中一者或多者的电极和烧枪，以控制所述生料区的温度在第一温度范围内、所述加热区的温度在第二温度范围内、所述澄清区的温度在第三温度范围内。

可选的，所述第一温度范围为：T1*99％-T1*101.5％，T1为生料区温度预设值；所述第二温度范围为：T2*99.5％-T2*100.5％，T2为加热区温度预设值；所述第三温度范围为：T3*99.5％-T3*101％，T3为澄清区温度预设值。

可选的，所述加热区温度预设值大于所述澄清区温度预设值，所述澄清区温度预设值大于所述生料区温度预设值。

可选的，控制所述生料区的温度变化的速率在第一速率范围内；控制所述加热区的温度变化的速率在第二速率范围内；控制所述澄清区的温度变化的速率在第三速率范围内。

可选的，所述第一速率范围为：0.1*T1℃/h-0.5*T1℃/h，T1为生料区温度预设值；所述第二速率范围为：0.1*T2℃/h-0.2*T2℃/h，T2为加热区温度预设值；所述第三速率范围为：0.1*T3℃/h-0.2*T3℃/h，T3为澄清区温度预设值。

可选的，所述澄清区的面积分别大于所述生料区的面积和所述加热区的面积。

可选的，所述窑炉为双胸墙托铁。

相应的，本发明实施例还提供一种高温玻璃生产方法，该方法利用上述所述的任一项所述的窑炉，包括：玻璃液样品从进料口进入窑炉池，依次通过生料区、加热区以及澄清区后从出料口流出；根据生料区、加热区以及澄清区的温度变化趋势，调节烧枪和电极，使得窑炉池内温度恒定。

可选的，根据生料区、加热区以及澄清区的温度变化趋势，调节烧枪和电极。

可选的，所述生料区设置两个电极、两个烧枪；所述加热区设置两个电极、一个烧枪；所述澄清区设置一个电级和一个烧枪；调节所述生料区、加热区和澄清区中一者或多者的电极和烧枪，以控制所述生料区的温度在第一温度范围内、所述加热区的温度在第二温度范围内、所述澄清区的温度在第三温度范围内。