[发明专利]一种降低多菌灵杂质DAP的方法

说明书

本发明涉及一种降低多菌灵杂质DAP的方法。将邻苯二胺送入光催化反应箱中，在黑暗环境中搅拌，触媒载体与邻苯二胺充分接触，触媒载体负载的改性光催化剂与邻苯二胺中混杂的DAP反应生成络合物，通过辐射光源对络合物进行照射，发生降解反应，降低DAP的含量。该改性光催化剂由水热法制备Cu²⁺掺杂的Nb₂O₅纳米球，将Cu²⁺掺杂进Nb₂O₅纳米球中，Cu²⁺可以与DPA分子中的N形成配位吸附生成[Cu(DPA)₂]²⁺，从而增加催化剂对DPA的化学吸附，在光降解阶段，Cu可以充当Nb₂O₅导带光生电子的俘获井，氧化产生的·OH将DPA氧化降解为CO₂、H₂O，从而大大降低DAP的含量。

技术领域

本发明属于多菌灵制备技术领域，具体地，涉及一种降低多菌灵杂质DAP 的方法。

背景技术

杀菌剂多菌灵(carbendagim)是一种广谱性内吸性杀菌剂，由于其杀菌谱广、低毒、使用方便，多年来，国内外一直广泛地应用于农作物等防治病害和工业上造漆、造纸、纺织、涂料和医药工业上。多菌灵是邻苯二胺和氰胺基甲酸甲酯进行络合反应得到的。随着越来越严格的环境保护要求，对该品种的质量要求亦越来越高，尤其是该品种含有的酚嗪类杂质2，3-二氨基酚嗪和2-氨-3-羟基酚嗪(简称DAP和HAP)，它们是强烈的致畸致癌物质，因此，国际上严格控制多菌灵中DAP+HAP≤3.5mg/kg。目前国内许多生产厂家均采用以下方法来降低DAP和HAP的含量，一、采用各种精馏设备来提高中间体邻苯二胺纯度，使原料中有害成分尽可能少带入反应系统；二、用有机溶剂洗涤成品，去除有毒物质。DAP来源是在生产邻苯二胺时纯苯中含有嗪环化合物，经氯化后变成氯嗪化合物，再经硝化、胺化水解、还原工艺，最终产生DAP和HAP有毒有害物质。

参考中国专利CN104961685A公开的一种多菌灵生产过程中降低多菌灵杂质DAP的方法，采用在缩合完成后加添加剂，通过DAP与添加剂进行络合，使DAP从产品中脱出，降低产品中杂质的含量，该方法是在多菌灵合成完成后采取的除杂方式，添加剂的引入对多菌灵的纯度和反应活性有不利影响，并且增加杂质分离步骤，因此需要在源头上降低DAP的含量，使它不进入下一阶段参与多菌灵的合成。

发明内容

本发明的目的在于提供一种降低多菌灵杂质DAP的方法，解决背景技术中提及的技术问题。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种降低多菌灵杂质DAP的方法，包括以下步骤：先进行邻苯二胺的合成，再进行邻苯二胺精馏，然后进行氰胺基甲酸甲酯的合成，最后邻苯二胺和氰胺基甲酸甲酯转移到反应釜内进行络合反应生成多菌灵；

邻苯二胺精馏后，将邻苯二胺从进料口送入光催化反应箱中，在黑暗环境中经搅拌器搅拌，触媒载体与邻苯二胺充分接触，触媒载体负载的改性光催化剂与邻苯二胺中混杂的DAP反应生成络合物，通过辐射光源对络合物进行照射，发生降解反应，降低DAP的含量。

反应过程如下：

进一步，辐射光源为300W氙灯，全光谱波长输出范围为320-780nm。

其中改性光催化剂由如下步骤制得：

步骤S1，将水合乙酸铌、无水氯化铜溶于去离子水中，超声溶解至澄清，向其中加入无水乙醇，超声分散后，倒入反应釜中，放置在200℃烘箱中反应13-15h，离心取沉淀用去离子水、无水乙醇洗涤2-3次，再置于60-65℃条件下干燥4-5h，得到固体产物；

步骤S2，将固体产物置于马弗炉中500℃煅烧2h，得到改性光催化剂。