[发明专利]一种MOCVD系统反应腔清理装置

权利要求书

1.一种MOCVD系统反应腔清理装置，包括自带加热装置的反应腔，其特征在于：所述反应腔上设置有氯气进气口和清扫进气口，所述氯气进气口通过氯气供应管道与氯气储存瓶联通，所述清扫进气口通过吹扫管道与吹扫系统连通，所述反应腔上还设置有出气口，该出气口上通过出气管道连接有过滤器，所述出气管道、氯气供应管道和吹扫管道上均设置有控制阀，所述过滤器包括箱体，所述箱体上设置有分隔板，所述分隔板将箱体分隔成为进气腔室和出气腔室，所述分隔板上设置有连通孔，所述分隔板上位于进气腔室内固定有滤芯组件，所述出气腔室上设置有排气口且内部固定有抽气风机，所述滤芯组件的内腔与连通孔相互连通，所述进气腔室上设置有补气口，该补气口与补气冷却系统相互连通。

2.如权利要求1所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述滤芯组件包括上安装板、下安装板和安装于上安装板和下安装板之间的中心龙骨，所述上安装板上设置有中心通孔，所述中心龙骨包括顶板、底板和连接顶板和底板之间的若干根连接螺杆，所述顶板和底板之间焊接有若干根支撑杆，所述支撑杆位于连接螺杆的外侧，所述连接螺杆的上端和下端分别贯穿所述上安装板和下安装板并与分隔板螺栓固定，所述中心龙骨的外部套装有滤料筒，所述滤料筒由折叠的滤料围成，所述滤料筒的外部套装有不锈钢滤筒，不锈钢滤筒通过固定结构安装于上安装板和下安装板之间。

3.如权利要求2所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述补气冷却系统包括一个补气风机，所述补气口的数量为多个且设置于分隔板上并贯穿所述上安装板，所述补气风机通过补气管道与各补气口连通，所述补气风机的风量小于所述抽气风机的风量。

4.如权利要求3所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述固定结构包括设置于上安装板的上固定环、设置于下安装板的下固定环，上固定环和下固定环同心设置，所述不锈钢滤筒的上端和下端处于上固定环和下固定环之间且由上安装板和下安装板轴向固定。

5.如权利要求4所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述顶板和底板的形状相同，所述顶板包括圆环状的顶板本体，所述顶板本体的外周圆周均布有向外径向凸伸的上凸伸部，所述底板包括圆环状的底板本体，所述底板本体的外周圆周均布有向外径向凸伸的下凸伸部，所述上凸伸部和下凸伸部一一对应设置，每根支撑杆固定在对应的上凸伸部和下凸伸部之间，每根支撑杆均位于滤料筒的折叠槽内。

6.如权利要求5所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述吹扫系统包括吹扫风机，所述反应腔上位于清扫进气口处设置有吹扫喷头，该吹扫喷头与通过吹扫管道与所述吹扫风机连接。

7.如权利要求6所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述吹扫喷头包括喷头本体，所述喷头本体螺纹安装于所述反应腔的顶盖上，所述喷头本体的内腔与清扫进气口联通，所述喷头本体上设置有若干个吹扫微孔，所述各吹扫微孔的角度不同。

8.如权利要求7所述的一种MOCVD系统反应腔清理装置，其特征在于：所述反应腔的顶盖中心内壁设置有安装凸台，所述喷头本体螺纹安装于所述安装凸台上，所述氯气进气口也设置于所述安装凸台上。