[发明专利]一种无储水箱水处理系统及工艺在审
申请号: | 202110919077.9 | 申请日: | 2021-08-11 |
公开(公告)号: | CN113562893A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 沈英立;何建庆 | 申请(专利权)人: | 北京先路水处理新技术公司 |
主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 101100 北京市通*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 储水 水处理 系统 工艺 | ||
本发明公开了一种无储水箱水处理系统及工艺,包括流动管路,所述流动管路上依次设有砂滤、碳滤、精密过滤器、一级RO膜组件、二级RO膜组件、EDI,所述砂滤的前端依次设有原水阀与原水泵,所述精密过滤器与所述一级RO膜组件之间设有一级高压泵,所述一级RO膜组件的另一端分别与一级排放阀以及液位传感器一连接,所述液位传感器一一端与所述精密过滤器、一级高压泵两者之间的流动管路连接贯通且设有一级回收阀与智能控制仪表一。有益效果为:在水处理工艺过程中,凡是采用水的液位,水量和水压传感器用电控的方式连续调节前后及水量的平衡的方式,减少和全部去除,储水罐,水箱和水池的做法都在保护之列。
技术领域
本发明涉及水处理技术领域,具体来说,涉及一种无储水箱水处理系统及工艺。
背景技术
以往的水处理工艺中包括预处理、水质净化、脱盐及深度净化的处理过程中,为保证工艺中每级和每一段处理的水量平衡,都要设置大大小小的各种水箱、水罐和水池,储存一定的水量,用以调节和缓冲工艺过程中,每一级和每一段水处理量的多少,以保证整套水处理工艺的平衡。这样就加大了占地的面积和水处理设备的成本。
为了解决这些问题,各级采用了水量、水位与水压的传感器,以电控的方式来调整水处理工艺中水量的平衡。简单的说就是水处理公艺中每一集级和每一段用多少水前级就共多少水,成品水的用户需要多少水就生产多少水。这样就可以去掉水处理工艺中的部分水箱或是全部的水箱、水罐和水池。从而减少了占地,简化了工艺,节省了设备的成本。
针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
针对相关技术中的问题,本发明提出一种无储水箱水处理系统及工艺,以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
为此,本发明采用的具体技术方案如下:
根据本发明一个方面,提供了一种无储水箱水处理系统。
该无储水箱水处理系统,包括流动管路,所述流动管路上依次设有砂滤、碳滤、精密过滤器、一级RO膜组件、二级RO膜组件、EDI,所述砂滤的前端依次设有原水阀与原水泵,所述精密过滤器与所述一级RO膜组件之间设有一级高压泵,所述一级RO膜组件的另一端分别与一级排放阀以及液位传感器一连接,所述液位传感器一一端与所述精密过滤器、一级高压泵两者之间的流动管路连接贯通且设有一级回收阀与智能控制仪表一,所述液位传感器一的另一端与所述二级RO膜组件连接,所述液位传感器一与所述二级RO膜组件之间设有二级高压泵,所述二级RO膜组件的一端与所述精密过滤器、一级高压泵两者之间的流动管路连接贯通,所述二级RO膜组件的另一端设有液位传感器二,所述液位传感器二与智能控制仪表二连接,所述智能控制仪表二与所述流动管路连接贯通,所述液位传感器二与所述EDI之间设有EDI供水泵,所述EDI远离所述EDI供水泵一侧设有单向阀,所述EDI上设有循环管路,所述循环管路上设有循环阀与压力控制器。
根据本发明另一个方面,提供了一种无储水箱水处理的工艺,用于无储水箱水处理系统,包括以下步骤;
在水处理过程中包括预处理水质净化、脱盐及深度净化的每一级的前后根据工艺的需加装管道式液位传感器,此液位传感器间接反应前级的供水量和后级用水量的大小;
液位传感器是垂直放置,高度与水处理高度持平,主要能检测出前后及用水量的大小即可,它的容水量很小一般只有几升到几十升水,它的水量不足以调节前后级用水量的功能;
垂直的管道传感器中的液位升高表示前级供水过大后级用水量減小,反之液位降低表示前级供水量小后级用水量大,水位无变化,稳定在一点上表示前级的供水和后级的用水平衡。
作为优选的,采用在前级加装连续调节阀,可根据下级的用水量来调节供水量的大小,实际用水量是由供水前级和下一级中的液位传感器提供的信号,用电控的方式来保持调节阀一定的开度。
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