[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

第一源漏金属层，位于所述衬底基板上；

第一钝化层，位于所述第一源漏金属层背离所述衬底基板的一侧；

第一平坦层，位于所述第一钝化层背离所述衬底基板的一侧；所述第一平坦层具有多个平坦部和多个镂空部；

第二源漏金属层，位于所述第一平坦层背离所述衬底基板的一侧；所述第二源漏金属层具有搭接电极和走线，所述镂空部在所述衬底基板上的正投影与所述搭接电极和走线在所述衬底基板上的正投影不交叠，所述走线和所述第一钝化层之间以及所述搭接电极和所述第一钝化层之间均具有所述平坦部；

第二平坦层，位于所述第二源漏金属层背离所述衬底基板的一侧。

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述第二源漏金属层和所述第二平坦层之间的第二钝化层，所述第二钝化层具有与所述搭接电极对应的第一过孔。

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二钝化层覆盖所述搭接电极和走线，且所述第二钝化层与所述搭接电极和走线直接接触；

所述第一钝化层的未与所述平坦部交叠的部分为第一部分，所述第二钝化层与所述第一部分直接接触；

所述平坦部具有与所述第一钝化层接触设置的底表面、与所述底表面相对设置的顶表面、连接所述底表面和所述顶表面的侧表面，所述第二钝化层与所述平坦部的侧表面直接接触。

4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二源漏金属层的搭接电极和走线在所述衬底基板上的正投影位于对应的所述平坦部在所述衬底基板上的正投影范围内。

5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述第二平坦层背离所述衬底基板一侧的阳极，所述阳极通过贯穿所述第二平坦层的第二过孔和所述第一过孔与所述搭接电极电连接。

6.如权利要求1-5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述平坦部的坡度角小于90°。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成第一源漏金属层；

在所述第一源漏金属层背离所述衬底基板的一侧形成第一钝化层；

在所述第一钝化层背离所述衬底基板的一侧形成具有多个平坦部和多个镂空部的第一平坦层；

在所述第一平坦层背离所述衬底基板的一侧形成第二源漏金属层；其中，所述第二源漏金属层具有搭接电极和走线，所述镂空部在所述衬底基板上的正投影与所述搭接电极和走线在所述衬底基板上的正投影不交叠，所述走线和所述第一钝化层之间以及所述搭接电极和所述第一钝化层之间均具有所述平坦部；

在所述第二源漏金属层背离所述衬底基板的一侧形成第二平坦层。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一钝化层背离所述衬底基板的一侧形成具有多个平坦部和多个镂空部的第一平坦层，具体为：

在所述第一钝化层背离所述衬底基板的一侧涂覆第一平坦材料膜层；

在所述第一平坦材料膜层背离所述衬底基板的一侧沉积第二源漏金属材料层；

采用包括Cl₂的等离子体对所述第二源漏金属材料层进行刻蚀，形成所述第二源漏金属层；

采用CF₄和O₂混合气体对所述第一平坦材料膜层进行刻蚀，同时将残余在所述第一平坦材料膜层和所述第二源漏金属层表面的Cl^-置换成F^-，形成具有多个所述平坦部和多个所述镂空部的所述第一平坦层。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在形成所述第二源漏金属层之后，且在形成所述第二平坦层之前，还包括：

形成第二钝化层；其中，所述第二钝化层具有与所述搭接电极对应的第一过孔。

10.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板，所述显示面板包括如权利要求1-6任一项所述的显示基板。