[发明专利]用于形成相机的悬架组件的技术在审
申请号: | 202110924334.8 | 申请日: | 2021-08-12 |
公开(公告)号: | CN114079722A | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | P·R·萨默;M·科伦;A·马根 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/232 |
代理公司: | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人: | 魏小薇;吴丽丽 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 形成 相机 悬架 组件 技术 | ||
1.一种方法,包括:
形成悬架组件的至少一部分,其中:
所述悬架组件包括:
内部框架,所述内部框架用于与相机的图像传感器耦接;
外部框架;和
一个或多个弯曲臂,所述一个或多个弯曲臂用于将所述内部框架连接到所述外部框架,其中所述一个或多个弯曲臂被构造成允许所述内部框架连同所述图像传感器相对于所述外部框架在一个或多个方向上运动,
其中所述形成包括:
在基板的第一侧处形成一条或多条电迹线;以及
在所述基板的第二侧处形成所述一个或多个弯曲臂,其中所述第二侧与所述第一侧相对,并且其中所述形成所述一个或多个弯曲臂包括:
使用一种或多种电铸工艺将第一材料沉积在由至少一层不同于所述第一材料的至少第二材料限定的一个或多个腔内,其中所述一个或多个弯曲臂中的弯曲臂包括所述第一材料并且基于在其内沉积所述第一材料的对应腔的形状而成形;以及
移除至少部分地围绕所述弯曲臂的所述第二材料的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述基板包括铜。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一材料包括铜钛合金。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述一条或多条电迹线包括镍钴合金或镍钨合金。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二材料包括正性或负性干膜光致抗蚀剂(DFR)。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述一个或多个弯曲臂中的至少一个弯曲臂形成为T形、倒T形或沙漏形。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述在所述基板的所述第一侧处形成所述一条或多条电迹线包括使用所述一种或多种电铸工艺在所述基板的所述第一侧处沉积至少第三材料以形成所述一条或多条电迹线。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述外部框架被构造成能够相对于所述一个内部框架折叠,以在所述外部框架和所述内部框架之间提供角度。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述至少一层至少所述第二材料中的所述一个或多个腔是通过将所述至少一层至少所述第二材料暴露于相同或不同波长的紫外光来生成的,并且其中在将所述第一材料沉积在所述一个或多个腔内之后,所述形成所述一个或多个弯曲臂包括使用一种或多种蚀刻工艺移除所述基板的一个或多个部分,使得所述一个或多个弯曲臂彼此分离。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述形成所述悬架组件的所述至少一部分还包括:
在所述基板的所述第一侧处形成一条或多条附加电迹线;以及
在所述基板的所述第二侧处形成所述内部框架或外部框架,其中所述形成所述内部框架或外部框架包括:
使用所述一种或多种电铸工艺将第三材料沉积在由所述至少一层不同于所述第三材料的至少所述第二材料限定的一个或多个附加腔内,其中所述内部框架或外部框架包括第三第一材料并且基于在其内沉积所述第三材料的对应腔的形状而成形;以及
移除至少部分地围绕所述内部框架或外部框架的所述第二材料的至少一部分。
11.一种相机,包括:
至少一个光学透镜;
图像传感器;和
悬架组件,所述悬架组件包括:
内部框架,所述内部框架用于与所述图像传感器耦接;
外部框架;
一条或多条电迹线,所述一条或多条电迹线位于基板的第一侧处;和
一个或多个弯曲臂,所述一个或多个弯曲臂位于所述基板的与所述第一侧相对的第二侧处,其中所述一个或多个弯曲臂被构造成将所述内部框架与所述外部框架连接,以允许所述内部框架连同所述图像传感器相对于所述外部框架在一个或多个方向上运动,并且其中所述一个或多个弯曲臂中的至少一个弯曲臂包括第一材料,所述第一材料的形状由使用一种或多种电铸工艺在第二材料中生成的一个或多个腔限定。
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