[发明专利]一种高沿面闪络电压超疏水涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷分散在乙醇溶液中，超声搅拌得到1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷/乙醇溶液，其1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷与乙醇溶液的体积比为1:5；

（2）于步骤（1）制得的1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷/乙醇溶液中加入二氧化硅分散液，水浴条件下超声搅拌并加入去离子水，搅拌均匀后抽滤并烘干研磨过滤残留物，制得疏水性二氧化硅，所述疏水性二氧化硅的粒径为18~22nm；

（3）将疏水性二氧化硅与六方氮化硼纳米片分散到有机溶剂中，超声搅拌后得到混合溶液；

（4）将聚二甲基硅氧烷溶于有机溶剂中，超声搅拌均匀后加入步骤（3）得到的混合溶液以及固化剂，持续搅拌后喷涂，制得高沿面闪络电压超疏水涂层。

2.如权利要求1所述的高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）~（4）中超声搅拌的转速为100~300r/min，超声频率为4000Hz。

3.如权利要求1所述的高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述二氧化硅分散液通过以下方法制得：将二氧化硅分散在乙醇中，超声并搅拌，形成二氧化硅分散液。

4.如权利要求1所述的高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述水浴温度为50~70℃，搅拌时间为3~5h。

5.如权利要求1所述的高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述六方氮化硼纳米片通过以下方法制得：

将六方氮化硼分散在有机溶剂中，超声剥离，离心处理后立刻取上清液进行抽滤处理，过滤残留物经烘干研磨后得到六方氮化硼纳米片；其中六方氮化硼纳米片的直径为180~230nm，厚度为20~30nm。

6.如权利要求1所述的高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述疏水性二氧化硅与六方氮化硼纳米片的添加质量比为1：（0.5~2）。

7.如权利要求1所述的高沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤（4）还包括将喷涂后的涂层于室温条件下固化24h或于130~140℃条件下固化20~30min。

8.采用权利要求1~7任一项所述的沿面闪络电压超疏水涂层的制备方法制备得到的高沿面闪络电压超疏水涂层。

9.如权利要求8所述的高沿面闪络电压超疏水涂层，其特征在于，所述二氧化硅纳米颗粒和所述六方氮化硼纳米片的总质量与所述聚二甲基硅氧烷的质量比例为1:1。