[发明专利]沉积设备的喷嘴堵塞清除装置及其喷嘴堵塞清除方法

说明书

公开了沉积设备的喷嘴堵塞清除装置以及使用其的喷嘴堵塞清除方法。沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件、喷嘴堵塞清除部、喷嘴堵塞清除部移动构件和运载件移动构件，其中，喷嘴堵塞清除部位于运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件；喷嘴堵塞清除部移动构件在运载件下方移动喷嘴堵塞清除部；运载件移动构件将运载件移动到沉积腔的内部和外部。

技术领域

本发明涉及解决在沉积设备中喷射沉积物质的喷嘴的堵塞的装置，以及使用该装置的喷嘴堵塞解决方法。

背景技术

在使用沉积设备执行沉积工艺时，可以通过喷嘴来喷射从沉积腔内部的蒸发源蒸发的有机物质。如果有机物质积聚到喷嘴的内部，则可能发生喷嘴的堵塞(clogging)现象。

以往采用如下方式来清除喷嘴的堵塞，即，通过在沉积腔内设置喷嘴堵塞清除装置，当发生喷嘴堵塞或喷嘴口径缩小等的问题时，使用喷嘴堵塞清除装置来清除喷嘴堵塞。

然而，在沉积腔内设置喷嘴堵塞清除装置来使用的情况下，存在沉积腔的尺寸变大的问题。另外，由于喷嘴堵塞清除装置设置在沉积腔内，因此，存在难以更换喷嘴堵塞清除装置或者清洁喷嘴堵塞清除装置的问题。

发明内容

解决的技术问题

本发明的一个目的是提供可以与沉积腔分开保管的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置以及使用该装置的喷嘴堵塞清除方法。

然而，本发明的目的不限于如上所述的目的，并且可以在不脱离本发明的思想和领域的范围内进行各种扩展。

解决方法

为了实现前述的本发明的一个目的，根据实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件、喷嘴堵塞清除部、喷嘴堵塞清除部移动构件和运载件移动构件，其中，上述喷嘴堵塞清除部位于上述运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件，上述喷嘴堵塞清除部移动构件在上述运载件下方移动上述喷嘴堵塞清除部，且上述运载件移动构件将上述运载件移动到沉积腔的内部和外部。

在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件可以包括卤素灯。

在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括至少一个透镜，上述透镜布置在上述卤素灯下方并且用于压缩从上述卤素灯发射的光。

在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括管和凸缘，其中上述管围绕上述卤素灯，且上述凸缘连接到上述管的下端，其中，上述透镜可以通过上述凸缘接合到上述管。

在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件还可以包括以上述卤素灯为中心对称布置的多个聚光镜。

在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除装置还可以包括保护盖，上述保护盖位于上述喷嘴堵塞清除部下端。

在一个实施方式中，上述保护盖可以包括铝。

在一个实施方式中，上述沉积设备的喷嘴堵塞清除装置还可以包括无线模块，上述无线模块接收存在于上述沉积腔内部的被堵塞的喷嘴的位置信息。

为了实现前述的本发明的一个目的，根据实施方式的沉积设备的喷嘴堵塞清除装置可以包括运载件、喷嘴堵塞清除移动部、喷嘴堵塞清除移动部保持架、喷嘴堵塞清除部移动构件和运载件移动构件，其中，上述喷嘴堵塞清除移动部位于上述运载件下方，并且包括至少一个喷嘴堵塞清除构件，上述喷嘴堵塞清除移动部保持架位于上述运载件下方，并且具有能够供上述喷嘴堵塞清除移动部在与上述运载件的移动方向垂直的方向上移动的内部空间，上述喷嘴堵塞清除部移动构件在上述运载件下方移动上述喷嘴堵塞清除移动部保持架，且上述运载件移动构件将上述运载件移动到沉积腔的内部和外部。

在一个实施方式中，上述喷嘴堵塞清除构件可以包括卤素灯。