[发明专利]用于光致抗蚀剂底层的涂料组合物在审
| 申请号： | 202110934022.5 | 申请日： | 2021-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN114196293A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | J·凯茨;刘盛;崔莉;山田晋太郎;S·M·科莱;L-S·科 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C09D165/00 | 分类号： | C09D165/00;C08G61/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;乐洪咏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂 底层 涂料 组合 | ||
1.一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含聚合物，所述聚合物包含具有式(1)的重复单元：
其中
Ar是单环或多环C5-60芳香族基团，其中所述C5-60芳香族基团包含一个或多个芳香族环杂原子、包含杂原子的取代基、或其组合；
R1是氢、取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C1-30杂烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C2-30杂环烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C2-30炔基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C7-30烷基芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基、或取代或未取代的C4-30杂芳基烷基；并且
R2是取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C1-30杂烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C2-30杂环烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C2-30炔基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C7-30烷基芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基、或取代或未取代的C4-30杂芳基烷基，
其中R1和R2可以任选地一起形成环。
2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂底层组合物，其中，Ar是单环或多环C5-60亚杂芳基或单环或多环C6-60亚芳基，任选地被以下中的至少一个取代：取代或未取代的C1-30烷基、取代的或未取代的C1-30卤代烷基、取代的或未取代的C3-30环烷基、取代的或未取代的C1-30杂环烷基、取代的或未取代的C2-30烯基、取代的或未取代的C2-30炔基、取代的或未取代的C6-30芳基、取代的或未取代的C7-30芳基烷基、取代的或未取代的C7-30烷基芳基、取代的或未取代的C3-30杂芳基、取代的或未取代的C4-30杂芳基烷基、卤素、-OR11、-SR12、或-NR13R14，其中R11至R14各自独立地是氢、取代的或未取代的C1-30烷基、取代的或未取代的C3-30环烷基、取代的或未取代的C2-30杂环烷基、取代的或未取代的C6-30芳基、取代的或未取代的C7-30芳基烷基、取代的或未取代的C3-30杂芳基、或取代的或未取代的C4-30杂芳基烷基，
前提是所述单环或多环C6-60亚芳基被至少一个包含杂原子的取代基取代。
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