[发明专利]显示面板以及显示面板的制作方法

说明书

本申请提供了一种显示面板以及显示面板的制作方法，包括：阵列基板，包括平坦化层，所述平坦化层上设置有凹槽；像素定义层，设置于所述平坦化层上并填充于所述凹槽内，所述像素定义层上设置有像素开口；阳极，设置于所述平坦化层和所述像素定义层之间，所述阳极的端部置于所述凹槽内，所述阳极中部显露于所述像素开口。本申请通过在阵列基板的平坦化层上制作凹槽，使位于平坦化层和像素定义层之间的阳极的端部刻蚀后落于凹槽内，从而使像素定义层覆盖阳极端部，在不改变像素定义层相对阳极高度的前提下，提高像素定义层对阳极端部覆盖的高度，防止阳极刻蚀时裸露，从而达到更好的保护效果。

技术领域

本申请涉及显示器件技术领域，尤其涉及一种显示面板以及显示面板的制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示屏具有自发光、超轻薄、响应速度快、视角宽、功耗低等优点，被认为是最具有潜力的显示器件。

在OLED器件中，阳极一般由金属制成，例如采用ITO(氧化铟锡)/Ag(银)/ITO(氧化铟锡)，IZO(铟锌氧化物)/Ag(银)/IZO(氧化铟锡)等是较为常见的复合结构。随着工艺的优化，阳极的刻蚀工艺由三步刻蚀，进化到两步刻蚀，最后到一步刻蚀，同时三步刻蚀工程制造上节约了成本提高了效率。

但同时有其自己缺陷存在，由于工艺需求下层ITO膜层无刻蚀残留，因此需要延长刻蚀时间，由此导致Ag膜层刻蚀量远大于ITO膜层刻蚀量。Ag膜层后退严重，复合膜层中处于中间位置的Ag膜层会后退，被刻蚀基板部分位置的上层ITO膜层会失去支持而塌陷，对Ag膜层的侧壁起到包裹的作用，影响溶液对Ag膜层的进一步作用，而部分位置上层ITO无塌陷，Ag膜层裸露并被进一步腐蚀，导致其台阶边缘会有Ag裸露出来，裸漏的Ag会在空气中氧化生长，形成较大凸起，在做像素定义层(Pixel definition layer，PDL)时，如果像素定义层较薄，不能覆Ag的氧化生长物，最终会导致成阴阳极短路，结果宏观表现为发光亮度不均匀，影响有机发光器件的显示效果。

发明内容

本申请提供一种显示面板以及显示面板的制作方法，以解决阳极金属容易裸露的问题。

一方面，本申请提供一种显示基板，包括：

阵列基板，包括平坦化层，所述平坦化层上设置有凹槽；

像素定义层，设置于所述平坦化层上并填充于所述凹槽内，所述像素定义层上设置有像素开口；

阳极，设置于所述平坦化层和所述像素定义层之间，所述阳极的端部置于所述凹槽内，所述阳极中部显露于所述像素开口。

在本申请一种可能实现方式中，所述阳极与所述像素开口的侧壁之间设有一间隙。

在本申请一种可能实现方式中，所述凹槽包括间隔设置的第一槽体和第二槽体；

所述阳极的一端位于所述第一槽体内，另一端位于所述第二槽体内。

在本申请一种可能实现方式中，所述阵列基板包括依次层叠设置的衬底、有源层、栅极层、源漏极层，所述平坦化层设置于所述源漏极层上，所述源漏极层包括源极和漏极；

所述平坦化层上设有通孔，所述通孔与所述第二槽体连通，所述源极部分显露于所述通孔，所述阳极通过所述通孔与所述源极接触。

在本申请一种可能实现方式中，所述显示面板还包括：

过渡层，设置于所述漏极和所述阳极之间，所述过渡层填充于所述通孔内。

在本申请一种可能的实现方式中，所述凹槽的高度范围为0.5μm-1μm，所述高度为沿着所述凹槽的底壁到所述凹槽开口端面之间的距离。

在本申请一种可能的实现方式中，所述像素定义层包括：