[发明专利]位移测量系统及光刻设备

权利要求书

1.一种位移测量系统，其特征在于，包括光栅安装板(300)以及沿第一方向依次设置在所述光栅安装板(300)上的曝光位光栅(120)和预处理位光栅(110)，所述曝光位光栅(120)和所述预处理位光栅(110)分别包括一回字型光栅；

所述位移测量系统还包括工件台(200)以及间隔设置在所述工件台(200)表面的探测机构，所述工件台(200)与所述光栅安装板(300)沿第二方向间隔设置，所述探测机构与所述曝光位光栅(120)和预处理位光栅(110)配合，用于提供所述位移测量系统的测量基准；

所述第一方向与所述第二方向垂直。

2.根据权利要求1所述的位移测量系统，其特征在于，所述回字型光栅包括两个沿第三方向间隔且相对设置的“C”字型平面光栅(101)；

所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向相互垂直。

3.根据权利要求1所述的位移测量系统，其特征在于，所述回字型光栅为平面反射型二维光栅，且所述回字型光栅的下表面平行于所述工件台(200)的表面。

4.根据权利要求1所述的位移测量系统，其特征在于，所述回字型光栅通过范德华力或者胶合方式连接在所述光栅安装板(300)的下表面。

5.根据权利要求1所述的位移测量系统，其特征在于，所述探测机构包括四个探测器(210)，所述工件台(200)为矩形结构，所述矩形结构的每个角设置有一个所述探测器(210)，四个所述探测器(210)在所述第一方向上的投影不重合；

当一个探测器(210)处于无效区域时，无法接收到平面光栅的衍射回光，只能凭借其它探测器(210)的位移测量值，解算出六自由度位移，不同探测器(210)陆续经过无效区域，需要不断切换解算所需的测量值。

6.根据权利要求5所述的位移测量系统，其特征在于，所述探测器(210)为具有二自由度测量功能的光栅干涉仪或光栅编码器。

7.根据权利要求5所述的位移测量系统，其特征在于，所述探测器(210)包括探测器镜组、入光/回光信号接收器和安装座组件；所述探测器镜组与所述入光/回光信号接收器通过所述安装座组件固定在所述工件台(200)的表面；

所述探测器镜组用于产生激光干涉信号，所述入光/回光信号接收器用于提供输入信号及接收输出干涉信号。

8.根据权利要求1所述的位移测量系统，其特征在于，所述位移测量系统还包括驱动机构，所述驱动机构与所述工件台(200)连接，用于驱动所述工件台(200)和所述探测机构在所述第一方向、所述第二方向和第三方向移动，其中，所述第三方向为分别与所述第一方向和所述第二方向垂直的方向。

9.根据权利要求1-8任一项所述的位移测量系统，其特征在于，所述位移测量系统还包括延伸位光栅(130)，所述延伸位光栅(130)连接在所述曝光位光栅(120)远离所述预处理位光栅(110)的一侧。

10.一种光刻设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的位移测量系统。