[发明专利]离子注入装置及微粒检测方法

权利要求书

1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：

射束线装置，输送离子束；

注入处理室，进行向晶圆照射所述离子束的注入处理；

照明装置，在所述射束线装置内及所述注入处理室内的至少一者中，向与所述离子束的输送方向交叉的方向照射照明光；

摄像装置，生成对所述照明光通过的空间进行拍摄而得的摄像图像；及

控制装置，根据所述摄像图像检测使所述照明光散射的微粒。

2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置根据所述射束线装置的动作状态来改变所述微粒的检测条件。

3.根据权利要求1或2所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置根据所述离子束的射束电流量来改变所述微粒的检测条件。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置根据所述射束线装置内的所述离子束的输送状态来改变所述微粒的检测条件。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置根据所述射束线装置内及所述注入处理室内的至少一者的内部压力的变化来改变所述微粒的检测条件。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述射束线装置具备用于对所述离子束施加电场的多个电极，

所述照明光以通过所述多个电极之间的方式照射，

所述摄像装置对所述多个电极之间的空间进行拍摄。

7.根据权利要求6所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置根据施加于所述多个电极的电压值来改变所述微粒的检测条件。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述照明光朝向所述晶圆的表面附近照射，

所述摄像装置配置成在所述摄像装置的视场角中不包含所述晶圆的表面。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述注入处理室具备用于调整所述晶圆相对于所述离子束的输送方向的倾斜角的倾斜角调整机构，

所述照明装置构成为能够根据所述晶圆的倾斜角来调整所述照明光的通过位置，

所述摄像装置构成为能够根据所述晶圆的倾斜角来调整所述摄像装置的视场角。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述照明光以与所述离子束交叉的方式呈片状或箱体状照射。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述照明光在时间上连续地照射，所述摄像装置生成在不同的时间点拍摄的多个摄像图像。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置将所述摄像图像分割为多个微小区域，通过对所述多个微小区域各自所包含的多个像素的亮度值进行合计或平均来计算微小区域的亮度值，并根据所述微小区域的亮度值对每个所述微小区域检测所述微粒的有无。

13.根据权利要求12所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置确定具有超过阈值的亮度值的微小区域，根据所述确定的微小区域在所述摄像图像中的分布对每个所述微小区域检测所述微粒的有无。

14.根据权利要求12或13所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制装置使用对每个所述微小区域决定的所述微粒的检测条件，对每个所述微小区域检测所述微粒的有无。