[发明专利]一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法在审

专利信息
申请号: 202110957666.6 申请日: 2021-08-19
公开(公告)号: CN113670961A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 范兼睿;刘小姣;徐风友;汪玥;张昕婷;沈高青;李志林;曹盼 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: G01N23/20066 分类号: G01N23/20066;G06F17/15
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210016*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 空间 分布 拟合 光子 多次 散射 校正 方法
【说明书】:

发明公开了一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法,该方法通过把γ光子多次散射看作γ光子多个单次散射的叠加,将γ光子采样数据按LoR在Root中的保存方式进行投影,分别对离散的γ光子单次散射分布和多次散射分布进行函数拟合,确定核函数的表达形式,计算探测系统中每个探测器对记录的γ光子多次散射数目,最后,将多次散射的γ光子从原始γ光子数据中剔除。本方法有效解决了由于散射的γ光子造成重建图像出现的星状辐射伪影、边缘模糊等图像失真情况,从而达到了γ光子多次散射校正的目的,并且提高了γ光子多次散射识别准确性。

技术领域

本发明涉及γ光子三维成像领域,尤其涉及一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法。

背景技术

γ光子三维成像技术应用到工业复杂件内腔结构及内壁缺陷检测时,由于工业复杂件组成材质为密度大的金属、合金,当γ光子穿透检测对象被探测系统记录过程中,受康普顿散射效应、瑞利散射效应等影响,γ光子会发生散射事件。有的γ光子在穿透复杂件被探测器记录的过程中,发生多次散射事件,称为γ光子多次散射事件。γ光子散射事件使γ光子的运动轨迹及所携带能量发生改变,从而使γ光子探测系统记录的LoR包含正电子湮没位置的错误信息,且散射的γ光子数目约占所有γ光子的30%~50%,而散射的γ光子会导致重建图像出现边缘模糊、星状伪影等图像失真问题,从而降低了检测分辨率。因此要想得到分辨率高的γ光子三维成像检测技术,必然要进行γ光子散射校正。

目前γ光子散射校正方法主要分为四类:能窗识别法、散射补偿迭代法、卷积处理法、Monte Carlo模拟法等。其中,能窗识别法的能量窗分割和标定系数需要人为选取和仿真确定,导致甄别效率降低;散射补偿迭代法仅对低比例γ光子散射事件能起到散射补偿效果;卷积处理法仅对核素空间均匀分布的检测实验散射校正效果明显;Monte Carlo模拟法准确率高、效果好,但需要事先预知检测过程中的每一个实验参数,这在实际检测应用中无法得到保证。

发明内容

发明目的:针对上述γ光子多次散射校正存在的问题,本发明基于γ光子康普顿散射分布理论,提出一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法,将γ光子多次散射分布看作是γ光子单次散射分布函数和多次散射高斯核函数的卷积,且γ光子单次散射高斯分布与γ光子多次散射高斯分布的方差之差为定值,将γ光子采样数据按LoR在Root中的保存方式进行投影,分别对离散的γ光子单次散射分布和多次散射分布进行函数拟合,确定核函数的表达形式,计算探测系统中每个探测器对记录的γ光子多次散射数目,最后将多次散射的γ光子从原始γ光子数据中剔除,达到γ光子多次散射校正的目的,提高了γ光子多次散射识别准确性。

技术方案:为实现本发明的目的,本发明所采用的技术方案是:一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法,具体包括以下步骤:

步骤1:在三维数据采集模式下,基于探测器对A、B记录的发生多次散射符合事件的γ光子对,建立γ光子多次散射校正数学模型;

步骤2:将空间三维坐标系XYZ投影变换到LoR数据重组后的二维坐标系Lθ,得出γ光子多次散射分布高斯核函数;

步骤3:计算探测器对A、B记录的发生多次散射符合事件的γ光子对数目。

在三维数据采集模式下,基于探测器对A、B记录的发生多次散射符合事件的γ光子对,建立γ光子多次散射校正数学模型:

步骤1-1:将空间坐标系XYZ变换为极坐标系令为核素空间分布函数,为衰减系数;

步骤1-2:每次γ光子散射事件属于互相独立事件,因此多次散射的概率密度完全可以按照独立事件的方式进行计算,令IS(A,B)为γ光子单次散射分布函数,KM(x,y,z)为γ光子多次散射概率分布高斯核函数,其计算公式如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航空航天大学,未经南京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110957666.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top