[发明专利]一种单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器有效
申请号: | 202110958868.2 | 申请日: | 2021-08-20 |
公开(公告)号: | CN113659940B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 洪伟;唐大伟;李泽坤;周培根 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H03F1/48 | 分类号: | H03F1/48;H03F3/19;H03F3/45 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 沈廉 |
地址: | 211189 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 输入 伪差分超 宽带 晶体管 放大器 | ||
1.一种单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器拓扑结构,其特征在于,包括一路差分共发射极结构放大器(1)、一路差分共基极结构放大器(2),差分共发射极结构放大器的接地输入端(3)、差分共基极结构放大器的接地输入端(4)直接接地,差分共发射极结构放大器(1)的同相输入端(7)和差分共基极结构放大器(2)的同相输入端相连接,差分共发射极结构放大器(1)的同相输出端(5)和差分共基极结构放大器(2)的同相输出端相连接;差分共发射极结构放大器(1)的反相输出端(6)和差分共基极结构放大器(2)的反相输出端相连接;差分共基极结构放大器基极(b)通过共模抑制电阻Rb(11)接偏置电压Vbias,b(12),差分共发射极结构放大器发射极(e)通过共模抑制电阻Re(13)接偏置电压Vbias,e(14);
位于共发射极结构放大器(1)集电极和共基极结构放大器(2)发射极的三路电流通路以提供晶体管的偏置电流I1(8)、偏置电流I2(9)、偏置电流I3(10),位于共基极结构放大器(2)基极和共发射极放大器(1)发射极的两路电压通路以提供晶体管的偏置电压Vbias,b(12)、偏置电压Vbias,e(14);共发射极结构放大器(1)基极和共基极结构放大器(2)发射极相接为输入端口Vin(15),共发射极结构放大器(1)集电极和共基极结构放大器(2)集电极分别为差分输出端口Vout+(16)、差分输出端口Vout-(17)。
2.根据权利要求1所述的单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器,其特征在于,所述的差分共发射极结构放大器(1)由第三晶体管(M3)、第四晶体管(M4)共发射极构成,第三晶体管(M3)的基极接输入端口Vin(15),第四晶体管(M4)的基极接地(3),第三晶体管的集电极(c3)接差分输出端口Vout+(15),第四晶体管(M4)的集电极(c4)接差分输出端口Vout-(16)。
3.根据权利要求1所述的单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器,其特征在于,所述的差分共基极结构放大器(2)由第一晶体管(M1)、第二晶体管(M2)共基极构成,第一晶体管(M1)的发射极接地(4),第二晶体管(M2)的发射极接输入端口Vin(15),第一晶体管的集电极(c1)接差分输出端口Vout+(15),第二晶体管的集电极(c2)接差分输出端口Vout-(16)。
4.根据权利要求2或3所述的单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器,其特征在于,所述的第一晶体管(M1)、第二晶体管(M2)、第三晶体管(M3)、第四晶体管(M4)为双极结型晶体管BJT、金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET、或高电子迁移率晶体管HEMT。
5.根据权利要求4所述的单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器,其特征在于,所述的第一晶体管(M1)、第二晶体管(M2)、第三晶体管(M3)、第四晶体管(M4)为金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET或者高电子迁移率晶体管HEMT时,针对各晶体管的电极不同命名,所述的发射极、基极、集电极对应为源极、栅极、漏极。
6.根据权利要求1所述的单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器,其特征在于,所述位于差分共发射极结构放大器(1)集电极和差分共基极结构放大器(2)发射极的三路电流通路的晶体管的偏置电流I1(8)、偏置电流I2(9)、偏置电流I3(10),通过电阻、晶体管提供电压或电流偏置的元件实现;所述位于差分共基极结构放大器(2)基极和差分共发射极结构放大器(1)发射极的两路电压通路的偏置电压Vbias,b(12)、偏置电压Vbias,e(14),通过电阻、电感、传输线、变压器、巴伦或提供电压或电流偏置的元件实现。
7.根据权利要求1所述的单端输入的伪差分超宽带晶体管放大器,其特征在于,所述位于差分共基极结构放大器(2)基极的电阻Rb(11)和差分共发射极结构放大器(1)发射极的电阻Re(13)变更为传输线或能提供共模抑制功能的元件。
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