[发明专利]一种X射线靶

权利要求书

1.一种X射线靶，其特征在于，包括：

X射线毛细管和靶材件；

所述靶材件设置在所述X射线毛细管的入口端；

电子束照射在所述靶材件上产生X射线，所述X射线透过所述靶材件并在所述X射线毛细管内聚焦，聚焦后的X射线通过所述X射线毛细管的出口端出射，形成微焦斑X射线。

2.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述靶材件嵌入到所述X射线毛细管的入口端。

3.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述靶材件通过固定件固定在所述X射线毛细管的入口端。

4.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述X射线毛细管为X射线多毛细管；所述X射线多毛细管的出口端出射多束微焦斑X射线。

5.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述X射线毛细管为X射线单毛细管；所述X射线单毛细管的出口端设置束流阻挡器；所述束流阻挡器的尺寸小于所述X射线单毛细管的出口端的尺寸。

6.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述X射线毛细管为X射线单毛细管；所述靶材件的中间部分的厚度大于周边部分的厚度；电子束照射在所述靶材件上产生的X射线仅在所述靶材件的周边部分透过。

7.根据权利要求4或5所述的一种X射线靶，其特征在于，所述靶材件的厚度为0.5H-0.6H；其中，H为穿透深度，U为入射电子束的加速电压，ρ为靶材件的密度。

8.根据权利要求6所述的一种X射线靶，其特征在于，所述靶材件的中间部分的厚度大于3H；所述靶材件的周边部分的厚度为0.5H-0.6H；其中，H为穿透深度，U为入射电子束的加速电压，ρ为靶材件的密度。

9.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述X射线毛细管为内壁镀高密度薄膜层的玻璃毛细管或内壁镀多层膜结构的玻璃毛细管；所述高密度薄膜层为密度大于8g/cm³的薄膜层。

10.根据权利要求1所述的一种X射线靶，其特征在于，所述靶材件的材料为金属材料。