[发明专利]一种光敏剂/粘土复合材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 202110960883.0 | 申请日: | 2021-08-20 |
公开(公告)号: | CN113694243B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 高玉婷;张家鑫;严春杰;潘玉凤 | 申请(专利权)人: | 中国地质大学(武汉) |
主分类号: | A61L15/18 | 分类号: | A61L15/18;A61L15/20;A61L15/46;A61L15/44 |
代理公司: | 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 | 代理人: | 万文广 |
地址: | 430000 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光敏剂 粘土 复合材料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种光敏剂/粘土复合材料,其特征在于:包括光敏剂和层状粘土,所述光敏剂插层在所述粘土中,所光敏剂为TPCI,所述粘土为蒙脱石,所述TPCI的结构式如式(I)所示,
式(I)。
2.一种如权利要求1所述的光敏剂/粘土复合材料的制备方法,其特征在于:将粘土与缓冲溶液混合制得均匀的浆液,向该浆液中滴加光敏剂避光反应后得光敏剂/粘土复合材料。
3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1、将一定质量的粘土加入到缓冲溶液中,制得w/v为0.2%~0.5%的悬浮
液;
S2、将步骤S1的悬浮液超声破碎制得均匀的浆液;
S3、在一定温度、磁力搅拌条件下向步骤S2的浆液中滴加0.015 mg/mL~0.6 mg/mL的光敏剂,避光反应6 h~48 h;
S4、将步骤S3反应后的溶液经冷冻干燥后获得光敏剂/粘土复合材料。
4.如权利要求3所述的一种光敏剂/粘土复合材料的制备方法,其特征在于:步骤S1中,所述缓冲溶液为磷酸缓冲溶液,所述磷酸缓冲溶液的pH值范围为6.5~7.4。
5.如权利要求3所述的一种光敏剂/粘土复合材料的制备方法,其特征在于:所述光敏剂为TPCI,所述粘土为蒙脱石,所述蒙脱石和所述TPCI的质量比范围为:13.0~6.5。
6.一种如权利要求2-5任一项所述的制备方法得到的光敏剂/粘土复合材料在制备抗菌止血敷料中的应用。
7.如权利要求6所述的应用,其特征在于:所述应用条件包括光照条件和过氧化氢条件,所述光照条件包括光照的波长为400 nm~600 nm和光照的光源功率为1 mW/cm2~50 mW/cm2;所述过氧化氢条件中的过氧化氢浓度为10 μmol/L~200 μmol/L。
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