[发明专利]一种自清洁硅胶键盘按键及其制备方法

权利要求书

1.一种自清洁硅胶键盘按键，其特征在于，由超疏水改性硅胶颗粒通过在100-120℃时以50MPa的压力下挤出至模具中一体成型后进行抛光和蚀刻得到的，所述超疏水改性硅胶颗粒是由原硅酸乙酯、聚六氢三嗪衍生物、硅烷偶联剂在羧基化纳米颗粒表面进行交联反应制得的。

2.根据权利要求1所述的一种自清洁硅胶键盘按键，其特征在于，述硅烷偶联剂为十八烷基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷中任意一种。

3.根据权利要求1所述的一种自清洁硅胶键盘按键，其特征在于，所述羧基化纳米颗粒为安必奇生物公司的型号为DNG-F047的羧基化二氧化硅，所述羧基化二氧化硅的直径为30nm。

4.根据权利要求1、2、3任意一项所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)聚六氢三嗪衍生物的准备：将甲醛溶解在去离子水中于70℃下搅拌30min形成甲醛溶液，再将多胺在搅拌下溶解在去离子水中形成多胺溶液，将多胺溶液在不断搅拌下滴加至甲醛溶液中，反应结束后进行离心，收集沉淀后进行干燥得到聚六氢三嗪衍生物；

(2)将羧基化纳米颗粒超声分散到去离子水中，再将聚六氢三嗪衍生物溶解在水中形成混合溶液，依次将原硅酸乙酯、硅烷偶联剂在不断搅拌下加入到混合溶液中进行反应后，将产物进行过滤、洗涤干净后，干燥得到超疏水改性硅胶颗粒；

(3)将步骤(2)得到的超疏水改性硅胶颗粒在100-120℃下加热后，在50MPa压力下挤入键盘按键模具中，继续加热30min，冷却固化后在抛光机中进行抛光，最后用盐酸蚀刻后得到自清洁硅胶键盘按键。

5.根据权利要求4所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的多胺为带有苯环的多胺，包括但不限于对苯二胺、3,3',4,4'-联苯四胺、1,5-萘二胺、1,3,5-三氨基苯中至少一种。

6.根据权利要求4所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的甲醛和多胺的摩尔比为12-14:5。

7.根据权利要求4所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的反应条件为在70-75℃下搅拌2-4h。

8.根据权利要求4所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中羧基化纳米颗粒、聚六氢三嗪衍生物、原硅酸乙酯和硅烷偶联剂的质量比为3-5:10-20:5-8:1-3。

9.根据权利要求4所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中的反应条件为在100-110℃下搅拌反应5-8h，所述步骤(1)和步骤(2)中的干燥条件为在60℃烘箱中烘干8-12h。

10.根据权利要求4所述的一种自清洁硅胶键盘按键的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中抛光机的转速为100-200r/min，抛光时间为30-60s，抛光砂纸为600-800目，所述步骤(3)中的盐酸浓度为1mol/L，所述蚀刻时间为30-40s。