[发明专利]一种哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖及其制备方法在审
申请号: | 202110962164.2 | 申请日: | 2021-08-20 |
公开(公告)号: | CN113582731A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 吴志坚;吴则昌;江期鸣;潘婷;林伟;邱军 | 申请(专利权)人: | 佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C04B41/86;C03C8/00;B28B11/06;B28B11/00;C09D11/30 |
代理公司: | 河源市华标知识产权代理事务所(普通合伙) 44670 | 代理人: | 郝红建;石其飞 |
地址: | 528000 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光带 立体感 数码 陶瓷砖 及其 制备 方法 | ||
1.一种哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)将坯料压制成砖坯,并通过干燥工序除去砖坯内的自由水,控制所述砖坯中的水分含量小于总质量的0.3%;
2)在砖坯的表面施布低光泽底釉;
3)将步骤2)完成低光泽底釉施布的砖坯温度保持在70~75℃,通过数码喷墨机对砖坯表面喷淋干粒墨水进行打印,所述干粒墨水的喷淋墨量速率为82~94g/m2,然后将其干燥,并使砖坯中的水分含量小于总质量的0.1%;
4)在砖坯表面喷涂哑光面釉;
5)将砖坯在1190~1210℃的温度下烧成60~75min,以得到具有哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖。
2.根据权利要求1所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述低光泽底釉的化学组成及质量百分比为:SiO2:70~75%,Al2O3:18~22%,Fe2 O3:0.2~0.5%,CaO:3~6%,Na2O:1~2%,K2O:1~2%及ZnO:0~1%。
3.根据权利要求2所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述低光泽底釉的制备工艺为:称取低光泽底釉原料,按照重量比添加羧甲基纤维素0.3~0.5%及聚乙烯醇缩丁醛0.6~0.7%,获得低光泽底釉磨料,然后按照磨料与水为1:3的比例送入至球磨机中进行研磨加工。
4.根据权利要求3所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述低光泽底釉在砖坯上的施布方式为先喷水,并控制喷水量在42±1g,然后通过钟罩淋釉器以施釉量为620±10g/m2的速率将低光泽底釉喷淋在砖坯上。
5.根据权利要求1所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述干粒墨水以质量百分比的颗粒级别份组为:100~150目:30~35%,150~200目:40~45%,200目以下:15~25%。
6.根据权利要求1所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述干粒墨水的化学组成及重量百分比为:氧化铝:20~25%、哑光干粒A:30~35%、溶剂:60~65%、分散剂:4~6%、疏水剂:1~2%。
7.根据权利要求6所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述哑光干粒A的化学组成及重量百分比为:SiO2:60~65%,Al2O3:18~23%,CaO:4~5%,Na2O:2~4%,K2O:1~2%及ZnO:5~6%。
8.根据权利要求1所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述哑光面釉的化学组成及重量百分比为:钾钠长石:35~40%、哑光干粒B:24~32%、高岭土:34~53%、煅烧高岭土:12~18%、白云石:13~18%。
9.根据权利要求8所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法,其特征在于:所述哑光干粒B的化学组成及重量百分比为:SiO2:45~58%,Al2O3:14~20%,SrO:7~10%,Na2O:2~4%,BaO:4~6%及ZnO:2~4%。
10.一种哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖,其特征在于:使用权利要求1~9任意一项所述的哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖的制备方法制备得到,由下至上依次包括砖坯层、低光泽底釉层、干粒墨水层及哑光面釉层,所述干粒墨水层的表面具有凹凸状的纹理结构。
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