[发明专利]等离子在制备改善或治疗脑梗死和脑水肿的药物中的用途

说明书

本发明公开了等离子在制备改善或治疗脑梗死和脑水肿的药物中的用途，属于医药技术领域。本发明首次发现了间歇性等离子体对于改善脑梗死和脑水肿中的新用途，具有均匀、稳定、接触安全等特性，通过在缺血性脑卒中发病时给予等离子体吸入干预，从而改善疾病的治疗效果；能够明显减少实验性缺血性脑卒中大鼠疾病模型脑梗死体积。

技术领域

本发明涉及等离子在制备改善或治疗脑梗死和脑水肿的药物中的用途，属于医药技术领域。

背景技术

卒中是由于脑部血液循环障碍,导致以局部神经功能缺失为主要特征的一组疾病，目前是全世界成年人第一致死和致残的原因，而缺血性脑卒中是脑卒中最主要的类型，占所有脑卒中的70％-80％，主要病因是脑血管病变导致的脑部供血不足而引起的脑组织缺血损伤和神经细胞的死亡。在我国，随着人口老龄化趋势加速及人们生活方式的改变，缺血性卒中的发病率和死亡率呈逐年上升的趋势，给社会和家庭带来了沉重的负担。因此，对缺血性脑卒中相关类疾病的预防、治疗及保健手段的开发已逐渐成为了该领域的一个热点。

在缺血性卒中发病时，第一时间进行组织型纤溶酶原激活剂(recombinanttissue plasminogen activator,rtPA)溶栓治疗，使堵塞的血管再通恢复脑血流供应是治疗的第一选择。脑缺血损伤每延长1分钟，就会有多达数百万的脑细胞发生不可逆的死亡，从而对患者预后产生不可预知的影响。随着医疗技术的发展，缺血性脑卒中治疗“时间窗”可以延长到3-4.5小时，个别情况下甚至可以延长到6小时。但是由于神经细胞死亡的不可逆性，许多病人虽然进行了溶栓治疗，但是效果依然不好，往往伴有严重的“后遗症”，如失语，偏瘫等，严重影响了患者及家人的生活质量，引起一系列的家庭社会问题。因此，在缺血性脑卒中发作时，能够采取一定的措施延缓脑缺血的核心区向周边正常脑组织的“侵蚀”，为溶栓治疗争取时间，对改善最终治疗效果意义重大。

近年来，低温等离子体技术在生物医学领域的应用成为一个新兴的研究热点，并因此发展成了一门新的学科—等离子体医学。利用等离子体产生的活性粒子(如O^2-、NO^-及N^3-等)、带电粒子和紫外光线等等与气体、液体及组织等处理物的相互作用，等离子体被广泛应用于灭菌、皮肤病治疗、肿瘤治疗、口腔医学及伤口愈合等方面。已经获得授权的中国发明专利(ZL201511009739.X)公开了一种神经细胞保护方法，该方法公开了等离子体在体外对神经细胞损伤的保护作用，需要注意的是，该专利在体外发现了等离子体预处理对H₂O₂氧化应激损伤的SH-SY5Y神经细胞的保护作用。而本发明通过精确控制等离子体产生及处理的参数，优化等离子体鼻腔吸入的间隔和处理条件，使得作用于人体的等离子体始终处于生理浓度下，基于等离子体的生理学特性，通过在缺血性脑卒中发病后给予干预，从而延缓脑缺血损伤的进展进程，从而改善最终的治疗效果。

然而，过去针对等离子体治疗仪器的开发往往局限于灭菌、肿瘤处理及皮肤病治疗等方面，这需要大量的等离子体产生的活性物质，当这种剂量的等离子体被人体直接吸入后，必然产生不适感，甚至会由于缺氧加重病情进展。如何通过控制等离子体的剂量，开发出操控简单方便，安全性高的用于神经系统疾病治疗的等离子体装置，是一个亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的是提供间歇性等离子体吸入在改善脑梗死和脑水肿中的新用途。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案如下：

等离子在制备改善或治疗脑梗死和脑水肿的药物中的用途。

所述的等离子体为低温等离子体、大气压等离子体、氦气放电等离子体中的一种或几种。

所述等离子体为间歇式等离子体。

所述间歇式等离子体是指制备若干个独立的等离子体释放单元，或者将连续产生等离子体以间歇式的方式给予干预，每一次等离子体间歇式的干预视为一个独立的干预单元，一次完整的过程需要使用12-20次的干预单元。