[发明专利]一种耐高温、耐磨、耐强冲击的防腐微晶釉的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110965623.2 申请日: 2021-08-23
公开(公告)号: CN113789514B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 陈鸿美;张倩;余亭月 申请(专利权)人: 江阴硅普搪瓷股份有限公司
主分类号: C23D5/00 分类号: C23D5/00;C23D11/00;C03C8/00;C03C10/00
代理公司: 江阴市权益专利代理事务所(普通合伙) 32443 代理人: 王凯
地址: 214443 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 耐高温 耐磨 冲击 防腐 微晶釉 制备 方法
【说明书】:

发明涉及一种耐高温、耐磨、耐强冲击的防腐微晶釉的制备方法,制备方法的具体步骤为:首先熔制出面釉和底釉,面釉和底釉熔块(片)分别经过粉碎后加入球磨机,并在球磨机内加入规定比例的磨加物一起球磨;球磨机研磨成规定细度粉末后,通过真空输送系统后进入打包机包装入袋,面釉和底釉打包包装后,进入自动喷搪工艺,釉料喷搪完成后进入搪烧工艺,最终会得到防腐微晶釉。此配方、工艺制得的釉料具有超高的抗机械冲击、抗热应力及温差急变性能优,且耐磨性能优,同时耐酸侵蚀性、耐碱侵蚀性优良,适用于反应介质温度高、或反应介质为固液混合有固体颗粒磨损的搪玻璃设备、搅拌配件。

技术领域

本发明涉及一种耐高温、耐磨、耐强冲击的防腐微晶釉的制备方法。

背景技术

硅酸盐系统搪玻璃釉,主体骨架由SiO2组成,这类搪玻璃釉内部结构中存在着由硅氧四面体【SiO4】相互连接所形成的牢固骨架,相对而言比较完整。一般而言,真正的晶体其具有完整而规则的外观及完整而规则的内部排列,晶体物质一般都有熔点,但是非晶质体内部没有质点均匀排列,破坏各个部分的结构所需要的温度不同,因此,没有一定的熔点,这是区别于晶体物体的重要特征。

搪玻璃釉是一种非晶体物体,与玻璃相似,其中残留来不及参与反应的原始晶体和熔体冷淬过程中析出少量晶体,这些晶体只是镶嵌于玻璃相中,而且玻璃相中还存在微裂纹,这是这种材料的特性所在,虽然搪玻璃釉层中存在一定数量的晶体,但是广大空间仍然是玻璃相,即不是真正的晶体,其内部结构也远不及晶体物质规则,因此当釉层受到外力作用时,其作用力沿着各个方向均匀地传递而呈开放性破碎,故釉层的耐温差急变性,耐机械冲击性受到了较大的限制。常规的搪玻璃釉烧结后表面都为光洁的玻璃态,硬质颗粒如果在瓷面表面反复摩擦,会导致设备搪玻璃层表面被磨损,从而失去良好的防腐性能。并且搪玻璃釉加热时,首先变软,随后逐渐变为粘稠的液体。

发明内容

本发明的目的在于克服上述不足,提供了一种耐高温、耐磨、耐强冲击的防腐微晶釉的制备方法,此配方、工艺制得的釉料具有超高的抗机械冲击、抗热应力及温差急变性能优,且耐磨性能优,同时耐酸侵蚀性、耐碱侵蚀性优良,适用于反应介质温度高、或反应介质为固液混合有固体颗粒磨损的搪玻璃设备、搅拌配件。

本发明的目的是这样实现的:

一种耐高温、耐磨、耐强冲击的防腐微晶釉的制备方法,制备方法的具体步骤为:

1)首先熔制出面釉和底釉;

2)面釉和底釉分别经过球磨机进行球磨时,在球磨机中加入磨加物;

3)球磨机完成粉碎后,通过真空输送系统后进入打包机包装入袋;

4)面釉和底釉分别混合球磨成粉料并包装后,进入自动喷搪工艺,自动喷搪工艺的步骤如下:

①先喷涂两次底釉,瓷层总厚度≤0.3mm;

②喷涂5次面釉,1~3次釉层的分层厚度为0.15~0.25mm,4~5次釉层的分层厚度为0.10~0.15mm;

③成品总瓷层厚度为1.2~1.5mm;

5)釉料喷搪完成后进入搪烧工艺,搪烧工艺采用曲线烧成工艺,该烧成工艺的具体步骤为:

①一次底釉:炉温升至910℃~920 ℃时产品进炉,关闭炉门,当温度再次升至920℃,保持2~6分钟出炉;

②二次底釉:550 ℃~600℃时恒温30分钟,然后升温并控制升温速率至900℃~910 ℃温度烧成;

③面釉:面釉烧成温度820~840℃;

④析晶处理工艺:使用带智能化仪表的搪烧炉,炉温升到300℃产品进炉,设置2小时升温至700~720℃,恒温30分钟后切断电源降温至室温出炉,最终会得到防腐微晶釉。

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