[发明专利]一种石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110965832.7 申请日: 2021-08-23
公开(公告)号: CN113460999B 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 周庆萍;陈长鑫;高升广;江圣昊;石方远;赵修治 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184;C01B32/168;C01B32/159
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 代理人: 张换君
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 纳米 单壁碳 分子 内异质结 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结的制备方法,属于碳纳米材料技术领域。所述制备方法包括以下步骤:(1)将单壁碳纳米管和多巴胺盐酸盐加入到Tris‑HCl缓冲液中,置于黑暗环境中反应,过滤,得到聚多巴胺修饰的单壁碳纳米管;(2)将步骤(1)制得的聚多巴胺修饰的单壁碳纳米管分散在浓硫酸中,加入磷酸,升温,加入高锰酸钾,反应完成后冷却至室温,加入双氧水,过滤,水洗至中性,得到解链单壁碳纳米管;(3)将步骤(2)得到的解链单壁碳纳米管焙烧,焙烧产物用盐酸溶液超声处理,过滤,加入碘化氢溶液进行还原反应,反应后过滤,制得石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结。

技术领域

本发明涉及碳纳米材料技术领域,特别涉及一种石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结的制备方法。

背景技术

随着电子器件微型化的发展,硅基半导体器件已渐近其材料与物理极限。碳基分子器件逐渐被认为是取代硅基电子器件的最佳选择。新型碳基材料如石墨烯,碳纳米管等因其优良物理性能正成为制造下一代新型电子器件材料的主力军。近年来,关于石墨烯和碳纳米管的复合材料越来越受到关注,因为它不仅具有石墨烯和碳纳米管各自的各种优良特性,还表现出石墨烯和碳纳米管所不具备的优异物理化学性能,并已可成功应用于电容器、光电器件、储能电池、电化学传感器等领域。

石墨烯纳米带(GNR)单壁碳纳米管(SWCNT)分子内异质结,由于异质结独特的光电特性使其在未来具有众多潜在应用,因此已被广泛研究。GNR是一种对宽度和边缘严重依赖的材料,根据宽度和边缘,GNR既可以是金属性的,也可以是半导体性的。根据手性的不同,SWCNT既可以是金属性的,也可以是半导体性的。这种灵活的可调性使得由SWCNT与GNR组成的异质结在器件领域有着良好的应用。

现有的制备GNR的方法包括插层剥离解链碳纳米管法、化学侵蚀解链碳纳米管法、声化学解链碳纳米管、等离子刻蚀解链碳纳米管法、电化学刻蚀解链碳纳米管和过渡金属催化解链碳纳米管法等。其中等离子刻蚀解链碳纳米管法、电化学刻蚀解链碳纳米管和过渡金属催化解链碳纳米管法步骤复杂,对设备的要求高;插层剥离解链碳纳米管法、化学侵蚀解链碳纳米管法和声化学解链碳纳米管虽然对于设备要求不高,但是制备的GNR存在各种缺点,例如插层剥离解链碳纳米管法和化学侵蚀解链碳纳米管法会破坏GNR的结构,导致其电性能降低,声化学解链碳纳米管虽然制备出的GNR性能较高,但产率极低,仅为2%左右;且目前的制备方法中,仅有过渡金属催化解链碳纳米管法能够控制碳纳米管的解链程度。因此,提供一种方法简单,且能够控制解链程度的石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结的制备方法,对于本领域而言具有十分重要的意义。

发明内容

本发明的目的在于提供一种石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结的制备方法,通过简单的方法制备出解链程度可控的石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结,制备过程中对设备要求低,便于该制备方法的推广和应用。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:

本发明的技术方案之一:提供一种石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结的制备方法,包括以下步骤:

(1)将单壁碳纳米管和多巴胺盐酸盐加入到Tris-HCl缓冲液中,置于黑暗环境中反应,过滤,得到聚多巴胺修饰的单壁碳纳米管;

(2)将步骤(1)制得的聚多巴胺修饰的单壁碳纳米管分散在硫酸溶液中,加入浓磷酸,升温,加入高锰酸钾,反应完成后冷却至室温,加入双氧水,过滤,水洗至中性,得到解链单壁碳纳米管;

(3)将步骤(2)得到的解链单壁碳纳米管焙烧,焙烧产物用盐酸溶液超声处理,过滤,加入氢碘酸溶液进行还原反应,反应后过滤,制得石墨烯纳米带/单壁碳纳米管分子内异质结。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110965832.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top