[发明专利]一种软X射线滤光片及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 202110972075.6 | 申请日： | 2021-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN113689968A | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 孟建伟;翁祖谦 | 申请（专利权）人： | 上海科技大学 |
| 主分类号： | G21K1/10 | 分类号： | G21K1/10;C23C14/16;C23C14/30 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 严晨;许亦琳 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 射线 滤光 及其 制备 方法 用途 | ||
【权利要求书】：
1.一种软X射线滤光片，包括石墨烯支撑层，所述石墨烯支撑层表面涂覆有铝膜。
2.如权利要求1所述的软X射线滤光片，其特征在于，所述石墨烯支撑层的厚度为0.35～0.7nm。
3.如权利要求1所述的软X射线滤光片，其特征在于，所述铝膜的厚度为10～50nm。
4.如权利要求1所述的软X射线滤光片，其特征在于，所述软X射线滤光片还包括框架结构，所述石墨烯支撑层被固定于框架结构上。
5.如权利要求1所述的软X射线滤光片，其特征在于，所述软X射线滤光片对于能量为200～1000eV的光子的通过率≥80％；
和/或，所述软X射线滤光片对于能量为400～1000eV的光子的通过率≥95％。
6.如权利要求1～5任一权利要求所述的软X射线滤光片的制备方法，包括：在石墨烯支撑层表面形成铝膜。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在石墨烯支撑层表面形成铝膜的方法选自物理气相沉积法。
8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述物理气相沉积法选自电子束蒸镀。
9.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，还包括：将石墨烯支撑层固定于框架结构上。
10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述框架结构的材质为硅。
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