[发明专利]一种抗倾斜被动红外探测光路设计方法在审
申请号: | 202110973470.6 | 申请日: | 2021-08-24 |
公开(公告)号: | CN113703065A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 王岳鹏;崔文;张泽斌;李宝清;袁晓兵 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G01V8/10 | 分类号: | G01V8/10;G02B27/00 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 | 代理人: | 孙健 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 倾斜 被动 红外 探测 设计 方法 | ||
1.一种抗倾斜被动红外探测光路设计方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)选取四元PIR被动红外敏感元作为感光器件;
(2)根据目标高度确定垂直视场角;
(3)确定采用镜头的光圈数,并根据镜头的光圈数和镜头孔径得到镜头焦距;
(4)根据所述被动红外敏感元的尺寸和镜头焦距确定水平视场角;
(5)根据所述垂直视场角和水平视场角的大小确定镜头视场角的大小。
2.根据权利要求1所述的抗倾斜被动红外探测光路设计方法,其特征在于,所述步骤(2)中通过确定垂直视场角,其中,Y为垂直视场角,a为目标的高度,b为目标与镜头之间的水平距离。
3.根据权利要求1所述的抗倾斜被动红外探测光路设计方法,其特征在于,所述步骤(3)中通过镜头光圈数=镜头焦距÷镜头孔径计算得到镜头焦距。
4.根据权利要求1所述的抗倾斜被动红外探测光路设计方法,其特征在于,所述步骤(4)中通过确定水平视场角,其中,X为水平视场角,y为像高,f为镜头焦距,其中,c为被动红外敏感元的长度,d为被动红外敏感元的宽度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110973470.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。