[发明专利]羧甲基壳聚糖用于促进皮肤伤口愈合、修复皮肤屏障的用途在审

专利信息
申请号: 202110975976.0 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113599391A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 方庆秋;徐宇帆;何燕 申请(专利权)人: 上海陶盛生物技术有限公司
主分类号: A61K31/722 分类号: A61K31/722;A61P17/02;A61P17/00;A61K8/73;A61Q19/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 高燕;许亦琳
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 甲基 聚糖 用于 促进 皮肤 伤口 愈合 修复 屏障 用途
【说明书】:

羧甲基壳聚糖用于促进皮肤伤口愈合、修复皮肤屏障的用途。试验表明,所述羧甲基壳聚糖是促进皮肤伤口愈合、修复皮肤屏障的有效成分,能够起到显著的修复皮肤的效果,特别对于修复医美术后皮肤具有良好的适用性,细胞实验和人体实验均说明其用于皮肤表面后具有良好的抗菌和修复功效,同时其亲肤性和生物相容性效果好,具有实际应用价值。

技术领域

发明涉及一种羧甲基壳聚糖的新用途,具体涉及羧甲基壳聚糖在制备用于促进皮肤伤口愈合、修复皮肤屏障的用途。

背景技术

羧甲基壳聚糖是一种水溶性壳聚糖衍生物,有许多特性,如抗菌性强,具有保鲜作用,是一种两性聚电解质等。在化妆品、保鲜、医药等方面有多种应用,也是近年来研究得较多的壳聚糖衍生物之一。

羧甲基甲壳素的羧甲基是在糖残基的C6-OH上发生取代,有少量羧甲基在C3-OH上发生取代,生成的是O-羧甲基甲壳素。壳聚糖中,羧甲基既会在-OH上发生取代,也会在-NH上发生取代,生成O-羧甲基和N-羧甲基壳聚糖,实际上的取代情况有:C6-O-羧甲基、C2-N-羧甲基、C3-O-羧甲基、C6-O、C2-N-羧甲基等。由于C3上的位阻效应以及C2和C3之间的分子内氢键,使C3位上的羧甲基化比较难发生,所以羟基上的羧甲基取代,C3-O羧甲基较少一些,而以C6-O羧甲基为主。对于C6-OH与C2-NH来说,在碱性条件下羧甲基在羟基上的取代活性要高于氨基,因此,当取代度小于1时,羧甲基的取代主要是在羟基上而不是氨基上,只有取代度接近1和高于1时,才会同时在氨基上发生羧甲基取代,形成O,N-羧甲基壳聚糖。羧甲基壳聚糖的水溶性,除了因为它是一种羧酸钠盐而溶于水外,还有一个原因是羧甲基的导入,破坏了壳聚糖分子的二次结构,使其结晶度大大降低,几乎成为无定形。

现有技术中公开了羧甲基壳聚糖具有吸湿、保湿、抑菌的用途,但是其他用途均未被公开。

皮肤屏障是人体最大的组织,也是外环境与体内环境的界面,其用于保持人体内环境稳定,能够防止外界有害物质或不需要的物质入侵皮肤,防止机体内各种营养物质、水分和电解质的丧失;广义皮肤屏障包含微生物屏障、化学屏障、物理屏障以及免疫屏障等。皮肤屏障结构和功能异常会导致皮肤炎症和皮肤疾病的发生。

医美中光电治疗包括超声刀、光动力、射频、激光、可见光和强脉冲光等,可用于治疗疾病或者用于美容。其通过光热作用、光机械作用或光调作用能够针对皮肤损伤进行修复重建。

光电作用的靶标不同,对皮肤屏障的损伤结构不同,损伤程度亦不同。光电治疗会导致皮肤屏障功能破坏,并且可能会引起局部不良反应,如炎症、感染、瘢痕或色素。临床医生必须正确面对不同光电治疗引起的皮肤屏障损伤,熟悉各种光电治疗后的不良反应,并提供最佳、有效和及时的治疗后护理,这些会大大降低与治疗方式相关的风险。

但是,目前,还没有医美光电治疗术后护理的统一标准或者护理用品,而现有技术中也缺乏针对光电治疗术后的创面护理和修复的产品。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种羧甲基壳聚糖的新用途。

为了实现上述目的或者其他目的,本发明是通过以下技术方案实现的。

本发明首先公开了羧甲基壳聚糖用于非治疗目的地促进皮肤伤口愈合的用途。

本发明还公开了羧甲基壳聚糖作为促进皮肤伤口愈合的有效成分在制备外用产品中的用途。

本发明还公开了羧甲基壳聚糖用于非治疗目的地修复皮肤屏障的用途。

本发明还公开了羧甲基壳聚糖作为修复皮肤屏障的有效成分在制备外用产品中的用途。

本发明还公开了羧甲基壳聚糖用于制备由医美光电治疗引起的皮肤问题的外用产品。

优选地,本申请中,所述外用产品是指外用于皮肤表面的产品。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海陶盛生物技术有限公司,未经上海陶盛生物技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110975976.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top