[发明专利]一种显示面板、其制作方法及显示装置在审
申请号: | 202110977077.4 | 申请日: | 2021-08-24 |
公开(公告)号: | CN113675253A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 张雅倩;黄浩;王博;韩丛珍;张乐;熊正平;刘祺;齐超 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 刘红彬 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括显示区和位于所述显示区一侧的扇出区;所述扇出区包括:
衬底基板;
位于所述衬底基板一侧的扇出走线膜层组,所述扇出走线膜层组包括在所述衬底基板上依次形成的至少两层扇出走线金属层,每两层相邻的扇出走线金属层之间形成有绝缘层,每层所述扇出走线金属层包括多条扇出走线;
位于所述扇出走线膜层组远离所述衬底基板一侧的层间介质层;
位于所述层间介质层远离所述扇出走线膜层组一侧的信号线金属层,所述信号线金属层包括信号线金属图案以及填充于所述信号线金属图案以外区域的有机膜层;
位于所述信号线金属层背离所述层间介质层一侧的无机膜层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述有机膜层背离所述衬底基板的表面不高于所述信号线金属图案与所述有机膜层的连接处背离所述衬底基板的表面。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述有机膜层背离所述衬底基板的表面与所述信号线金属图案与所述有机膜层的连接处背离所述衬底基板的表面平齐。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述有机膜层的厚度与所述信号线金属图案的厚度相同。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,各层所述扇出走线金属层中的扇出走线个数相等。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述扇出走线膜层组包括形成于所述衬底基板上的第一扇出走线金属层、形成于第一扇出走线金属层背离所述衬底基板一侧的第一绝缘层以及形成于所述第一绝缘层一侧的第二扇出走线金属层。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一扇出走线金属层中的扇出走线在所述衬底基板上的正投影与所述第二扇出走线金属层中的扇出走线在所述衬底基板上的正投影无重叠。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第一扇出走线金属层中的扇出走线在所述衬底基板上的正投影与所述第二扇出走线金属层中的扇出走线在所述衬底基板上的正投影相互交错。
9.一种制备如权利要求1-8任一项所述的显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成扇出走线膜层组,所述扇出走线膜层组包括在所述衬底基板依次形成的至少两层扇出走线金属层,每两层相邻的扇出走线金属层之间形成有绝缘层,每层所述扇出走线金属层包括多条扇出走线;
在所述扇出走线膜层组背离所述衬底基板的一侧形成层间介质层;
在所述层间介质层背离所述扇出走线膜层组的一侧依次形成有机膜层以及信号线金属图案,其中,所述有机膜层填充于所述信号线图案以外的区域;
在所述信号金属层背离所述层间介质层的一侧形成无机膜层。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-8任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的