[发明专利]电磁数据的降噪方法、装置、计算机设备和存储介质有效
申请号: | 202110977531.6 | 申请日: | 2021-08-24 |
公开(公告)号: | CN113781332B | 公开(公告)日: | 2023-09-29 |
发明(设计)人: | 黄权;方文啸;邵伟恒;王磊;阮建高;黄云;路国光;陈军 | 申请(专利权)人: | 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室)) |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06F17/16 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐敏 |
地址: | 511300 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电磁 数据 方法 装置 计算机 设备 存储 介质 | ||
1.一种电磁数据的降噪方法,其特征在于,所述方法包括:
获取与目标频点对应的待处理的数据矩阵,所述待处理的数据矩阵为电磁数据,且通过频谱仪对芯片中的目标区域进行扫描得到;
按照所述数据矩阵中每个元素所对应的扫描顺序进行拼接,得到具有时间顺序的待处理序列;
基于预设时间窗口长度和预设步长,对所述待处理序列进行提取并转换得到提取矩阵;
对所述提取矩阵的协方差矩阵进行特征分解,并基于特征分解结果进行主成分分析,得到与特征空间对应的主成分矩阵;所述主成分矩阵中的每一列表征一个主成分;
对所述主成分矩阵中的各列数据进行特征空间映射,得到多个列映射结果,融合所述多个列映射结果,得到目标序列;
将所述目标序列构造回二维矩阵形式的目标矩阵,所述目标矩阵为所述数据矩阵经过降噪后所得到的矩阵。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于预设时间窗口长度和预设步长,对所述待处理序列进行提取并转换得到提取矩阵,包括:
基于预设步长,确定所述待处理序列中各个起始数据;
基于预设时间窗口,从各个起始数据开始,依次对所述待处理序列进行提取,提取得到各组窗口数据;
将各组窗口数据作为各个窗口列向量,并按照各组窗口数据的提取顺序,将各个窗口列向量进行组合,得到提取矩阵。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述提取矩阵的协方差矩阵进行特征分解,并基于特征分解结果进行主成分分析,得到与特征空间对应的主成分矩阵,包括:
基于所述预设时间窗口长度、所述预设步长、以及所述提取矩阵,计算与所述提取矩阵对应的协方差矩阵;
通过对所述协方差矩阵进行特征分解,得到与所述协方差矩阵对应的正交矩阵,所述正交矩阵包含有与协方差矩阵对应的各个特征向量;
将所述正交矩阵与所述协方差矩阵进行矩阵乘法运算,得到与特征空间对应的主成分矩阵。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述对所述主成分矩阵中的各列数据进行特征空间映射,得到多个列映射结果,包括:
基于所述主成分矩阵中的各列数据、以及预设时间窗口长度,得到与各列数据分别对应的各个子矩阵;
基于所述正交矩阵中各个特征向量所对应的列的顺序,确定各个特征向量的序号;
基于所述主成分矩阵中的各列的顺序,确定与各列分别对应的各个子矩阵的序号;
将同一个序号所对应的子矩阵和特征向量进行矩阵乘法运算,得到多个列映射结果。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述基于所述主成分矩阵中的各列数据、以及预设时间窗口长度,得到与各列数据分别对应的各个子矩阵,包括:
对于所述主成分矩阵中各列数据,均基于所述预设时间窗口长度和预设步长,确定待构建的子矩阵的列数,将所述预设时间窗口长度的数值作为所述待构建的子矩阵的行数;
对于每个待构建的子矩阵,将相应待构建的子矩阵所对应的列序号减去一个单位常数,得到相应待构建的子矩阵中相应列向量对应的插值数量;
对于待构建的子矩阵中每个列向量,将相应列向量中的插值数量个元素的值设为数值零,并基于相应的插值数量,从与待构建的子矩阵对应的列数据中选取指定数据,作为相应列向量中的其他元素的值;
组合各个列向量中各元素的值,得到与相应列数据对应的子矩阵。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述基于相应的插值数量,从与待构建的子矩阵对应的列数据中选取指定数据,作为相应列向量中的其他元素的值,包括:
对于待构建的子矩阵中的每列,将待构建的子矩阵的行数减去所述插值数量,得到指定数量,按照所述待构建的子矩阵对应的列数据中各个数据的顺序,依次筛选出指定数量个指定数据,作为相应列向量中的其他元素的值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室)),未经中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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