[发明专利]一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及其中间体

权利要求书

1.一种如式I所述的化合物：

其中，A为I或S；

n为2或3；

R为H、卤素、C_1-6烷基或C_1-6烷氧基的一种或多种，R在苯环上的取代基数为1～5；

Y为

2.如权利要求1所述的如式I所述的化合物，其特征在于，所述的如式I所示的化合物满足如下1个或多个条件：

①R中，所述的卤素为F、Cl、Br或I；

②R中，所述的C_1-6烷基为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基；

③R中，所述的C_1-6烷氧基为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基或叔丁氧基。

3.如权利要求1所述的如式I所述的化合物，其特征在于，所述的如式I所示的化合物满足如下1个或多个条件：

①R为H；

②A为S；

③n为3。

4.如权利要求1所述的如式I所述的化合物，其特征在于，R为H；

A为S；

n为3。

5.如权利要求1所述的如式I所述的化合物，其特征在于，所述的如式I所示的化合物满足如下条件：

为

6.如权利要求1所述的如式I所述的化合物，其特征在于，所述的如式I所示的化合物为如下任一化合物：

7.一种化合物II：

其中，Y的定义如权利要求1-5中任一项所述；N为碱金属。

8.如权利要求7所述的化合物II，其特征在于，N中，所述的碱金属为Li、Na或K。

9.如权利要求7所述的化合物II，其特征在于，所述的化合物II为如下任一化合物：