[发明专利]一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物有效

专利信息
申请号: 202110979405.4 申请日: 2021-08-25
公开(公告)号: CN113820918B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 王溯;方书农;徐森 申请(专利权)人: 上海芯刻微材料技术有限责任公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 王卫彬;马续红
地址: 201616 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 浸没 arf 光刻 用光 产酸剂 组合
【权利要求书】:

1.一种如式I所示的化合物作为光产酸剂在光刻胶中的应用;

其中,R1、R2、R3、R4和R5独立地为H、卤素、C1-6烷基或-O-C1-6烷基;

n为2或3;

A为S或I;

Y为

2.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物满足如下1个或2个条件:

①R1、R2、R3、R4和R5中,所述的卤素为F、Cl、Br或I;

②R1、R2、R3、R4和R5中,所述的C1-6烷基和所述的-O-C1-6烷基中的C1-6烷基独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基。

3.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物满足如下1个或多个条件:

①R1、R2、R3、R4和R5为H;

②n为3;

③A为S。

4.如权利要求1所述的应用,其特征在于,为

5.如权利要求1所述的应用,其特征在于,R1、R2、R3、R4和R5为H;

n为3;

A为S;

Y为

6.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物为如下任一化合物:

7.一种光刻胶组合物,其包括如下原料:如权利要求1-6中任一项所述的如式I所示的化合物、如式(1)所示的树脂、碱性添加剂和溶剂;

8.如权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物满足如下1个或多个条件:

①所述的光刻胶组合物中,所述的如式I所示的化合物以重量份计的份数为2-10份;

②所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂以重量份计的份数为20-120份;

③所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂的重均分子量为8000-9000g/mol;

④所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂以重量份计的份数为0.1-1份;

⑤所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂为C1-4烷基季铵碱;

⑥所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂以重量份计的份数为500-2000份;

⑦所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂为酯类溶剂。

9.如权利要求8所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物满足如下1个或多个条件:

①所述的光刻胶组合物中,所述的如式I所示的化合物以重量份计的份数为4份;

②所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂以重量份计的份数为100份;

③所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂的重均分子量为8500g/mol;

④所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂以重量份计的份数为0.5份;

⑤所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂为四甲基氢氧化铵;

⑥所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂以重量份计的份数为1000份;

⑦所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂为丙二醇甲醚乙酸酯。

10.如权利要求7-9任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物由如下原料组成:所述的如式I所示的化合物、所述的树脂、所述的碱性添加剂和所述的溶剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海芯刻微材料技术有限责任公司,未经上海芯刻微材料技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110979405.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top