[发明专利]一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物有效
申请号: | 202110979405.4 | 申请日: | 2021-08-25 |
公开(公告)号: | CN113820918B | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
发明(设计)人: | 王溯;方书农;徐森 | 申请(专利权)人: | 上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;马续红 |
地址: | 201616 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 浸没 arf 光刻 用光 产酸剂 组合 | ||
1.一种如式I所示的化合物作为光产酸剂在光刻胶中的应用;
其中,R1、R2、R3、R4和R5独立地为H、卤素、C1-6烷基或-O-C1-6烷基;
n为2或3;
A为S或I;
Y为
2.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物满足如下1个或2个条件:
①R1、R2、R3、R4和R5中,所述的卤素为F、Cl、Br或I;
②R1、R2、R3、R4和R5中,所述的C1-6烷基和所述的-O-C1-6烷基中的C1-6烷基独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基。
3.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物满足如下1个或多个条件:
①R1、R2、R3、R4和R5为H;
②n为3;
③A为S。
4.如权利要求1所述的应用,其特征在于,为
5.如权利要求1所述的应用,其特征在于,R1、R2、R3、R4和R5为H;
n为3;
A为S;
Y为
6.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的如式I所示的化合物为如下任一化合物:
7.一种光刻胶组合物,其包括如下原料:如权利要求1-6中任一项所述的如式I所示的化合物、如式(1)所示的树脂、碱性添加剂和溶剂;
8.如权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物满足如下1个或多个条件:
①所述的光刻胶组合物中,所述的如式I所示的化合物以重量份计的份数为2-10份;
②所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂以重量份计的份数为20-120份;
③所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂的重均分子量为8000-9000g/mol;
④所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂以重量份计的份数为0.1-1份;
⑤所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂为C1-4烷基季铵碱;
⑥所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂以重量份计的份数为500-2000份;
⑦所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂为酯类溶剂。
9.如权利要求8所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物满足如下1个或多个条件:
①所述的光刻胶组合物中,所述的如式I所示的化合物以重量份计的份数为4份;
②所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂以重量份计的份数为100份;
③所述的光刻胶组合物中,所述的如式(1)所示的树脂的重均分子量为8500g/mol;
④所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂以重量份计的份数为0.5份;
⑤所述的光刻胶组合物中,所述的碱性添加剂为四甲基氢氧化铵;
⑥所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂以重量份计的份数为1000份;
⑦所述的光刻胶组合物中,所述的溶剂为丙二醇甲醚乙酸酯。
10.如权利要求7-9任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物由如下原料组成:所述的如式I所示的化合物、所述的树脂、所述的碱性添加剂和所述的溶剂。
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