[发明专利]光罩缺陷检测方法、装置、电子设备、存储介质及芯片

权利要求书

1.一种光罩缺陷检测方法，其特征在于，包括：

获取光罩的生产级电子束曝光系统文件；

检测所述生产级电子束曝光系统文件中任意图案的标识，得到基准图案；

调用生产级电子束曝光系统的异或运算功能，对比待检测图案与所述基准图案是否相同，所述待检测图案为与所述基准图案重复的图案。

2.根据权利要求1所述的光罩缺陷检测方法，其特征在于，所述调用生产级电子束曝光系统的异或运算功能，对比待检测图案与所述基准图案是否相同，包括：

获取所述光罩的图案坐标书；

将所述图案坐标书导入所述生产级电子束曝光系统；

将基准坐标定位于所述基准图案，将运算坐标定位于待检测图案，调用所述生产级电子束曝光系统的异或运算功能进行异或运算，对比待检测图案与所述基准图案是否相同。

3.根据权利要求2所述的光罩缺陷检测方法，其特征在于，所述将基准坐标定位于所述基准图案，将运算坐标定位于待检测图案，包括：

将基准坐标基于坐标原点向外延伸预设距离形成基准坐标区域；

将所述基准坐标区域定位于所述基准图案；

将运算坐标基于坐标原点向外延伸预设距离形成运算坐标区域；

将所述运算坐标区域定位于所述待检测图案。

4.根据权利要求2所述的光罩缺陷检测方法，其特征在于，所述对比待检测图案与所述基准图案是否相同，具体为：

将所述待检测图案的每个标识与所述基准图案对应的标识进行相减。

5.根据权利要求1-4任一项所述的光罩缺陷检测方法，其特征在于，在所述获取光罩的生产级电子束曝光系统文件之前，所述光罩缺陷检测方法还包括：

获取所述光罩的图形数据流文件，并将所述图形数据流文件转换为所述生产级电子束曝光系统文件。

6.根据权利要求1-4任一项所述的光罩缺陷检测方法，其特征在于，在所述对比待检测图案与所述基准图案是否相同之后，所述光罩缺陷检测方法还包括：

若异或运算结果为0，确定所述光罩为正常光罩，发出无异常提示。

7.根据权利要求1-4任一项所述的光罩缺陷检测方法，其特征在于，在所述对比待检测图案与所述基准图案是否相同之后，所述光罩缺陷检测方法还包括：

若异或运算结果为1，确定所述光罩为异常光罩，发出异常提示。

8.一种光罩缺陷检测装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取光罩的生产级电子束曝光系统文件；

基准图案确定模块，用于检测所述生产级电子束曝光系统文件中任意图案的标识，得到基准图案；

对比检测模块，用于调用生产级电子束曝光系统的异或运算功能，对比待检测图案与所述基准图案是否相同，所述待检测图案为与所述基准图案重复的图案。

9.根据权利要求8所述的光罩缺陷检测装置，其特征在于，所述对比检测模块，包括：

坐标书获取单元，用于获取所述光罩的图案坐标书；

坐标书导入单元，用于将所述图案坐标书导入所述生产级电子束曝光系统；

对比检测单元，用于将基准坐标定位于所述基准图案，将运算坐标定位于待检测图案，调用所述生产级电子束曝光系统的异或运算功能进行异或运算，对比待检测图案与所述基准图案是否相同。

10.根据权利要求9所述的光罩缺陷检测装置，其特征在于，所述对比检测单元，包括：

基准坐标区域生成子单元，用于将基准坐标基于坐标原点向外延伸预设距离形成基准坐标区域；

基准定位子单元，用于将所述基准坐标区域定位于所述基准图案；

运算坐标区域生成子单元，用于将运算坐标基于坐标原点向外延伸预设距离形成运算坐标区域；

运算定位子单元，用于将所述运算坐标区域定位于所述待检测图案。