[发明专利]一种涂层支架及其制备方法

权利要求书

1.一种涂层支架（1），所述的涂层支架呈网状结构（2），其特征在于：所述的网状结构由三层结构组成，内层为支架层（3）、中间层为抗凝血改性层（4）、最外层为纳米短肽涂层（5）；所述的抗凝血改性层的厚度不大于200nm；所述的纳米短肽涂层为不连续的排列；所述涂层支架的制备方法的具体步骤如下：

（1）支架层的加工：支架层经编织机编织而成；

（2）等离子体沉积构建抗凝血改性层：对加工完成的支架层进行氧等离子体辉光放电处理：放电功率为20-300W，处理时间为2-30min，氧气流量为100ml/min~800ml/min；将氧处理后的支架层与多元醇或含羧酸官能团的物质进行反应；反应完成后继续进行羧基活化处理：最后再将活化后的支架层进行抗凝血物质的等离子沉积改性：等离子沉积温度为10~180℃，辉光放电沉积时间为2min-45min，放电功率为50-300W；

（3）短肽涂层：对表面修饰改性的抗凝血改性层，继续进行短肽的间断不连续的喷涂，使短肽利用共价键与抗凝血改性层进行反应。

2.根据权利要求1所述的涂层支架，其特征在于：所述网状结构的内层由直径为0.01mm~0.60mm的金属或高分子丝构成；所述涂层支架直径为1.0~30.0mm。

3.根据权利要求1所述的涂层支架，其特证在于：所述的抗凝血改性层为肝素、聚乙二醇、磷酸胆碱、羟乙基纤维素、壳聚糖及壳聚糖衍生物、白蛋白中的一种或几种的混合物。

4.根据权利要求1所述的涂层支架，其特征在于：所述的纳米短肽涂层为具有促进血管内膜再生的纳米短肽RGD、YIGSR、REDV、CAG、SVVYGLR中的一种或几种混合物。

5.根据权利要求1所述的涂层支架，其特征在于所述的纳米短肽涂层的厚度为10-200nm。