[发明专利]一种光学薄膜及其成型方法

权利要求书

1.一种光学薄膜，其特征在于，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，防指纹层设于防反射第二膜层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝。

2.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，所述基材的材质为pet、pc、pmma、tac、pen、cpi中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，相邻的两层高分子材料层中的一层为高折射率，另一层为低折射率，所述防反射第二膜层为低折射率。

4.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，所述防反射第二膜层的材料包括氧化硅、氟化镁、氧化铝、氟化铈、氟化镧、氟化钡、氟化铝、冰晶石、锥冰晶石、二氧化铝、碳化硅、氧化铌、氮化硅和氧化钛中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的一种光学薄膜，其特征在于，所述基材表面设有硬化膜层。

6.一种光学薄膜成型方法，用于制作权利要求1-5任一所述的光学薄膜，其特征在于，步骤如下：

1)通过湿法滚涂工艺在基材一侧表面层叠加工多层高分子材料层，加工完一层高分子材料层，干燥后再加工另一层高分子材料层，最后一层高分子材料层干燥后获得防反射第一膜层；

2)将获得的防反射第一膜层进行预加热，再加工防反射第二膜层；

3)在防反射第二膜层表面加工防指纹层。

7.如权利要求6所述的光学薄膜成型方法，其特征在于，步骤2)中，所述预加热温度为40-150℃。

8.如权利要求7所述的光学薄膜成型方法，其特征在于，步骤2)中，所述预加热时间为10s-60min。

9.如权利要求6所述的光学薄膜成型方法，其特征在于，步骤2)中，所述防反射第二膜层的加工工艺为湿法滚涂工艺或磁控溅射工艺。

10.如权利要求6所述的光学薄膜成型方法，其特征在于，步骤3)中，所述防指纹层采用卷对卷真空蒸镀方式加工。