[发明专利]金属有机化学气相沉积设备及其使用方法

权利要求书

1.一种金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述金属有机气相沉积设备包括反应腔、生长部件、加热部件与调节部件，

所述生长部件包括外延托盘与驱动组件，所述外延托盘位于所述反应腔内，所述驱动组件与所述外延托盘相连，所述驱动组件用于驱动所述外延托盘转动或者轴向移动，

所述加热部件与所述反应腔相连，所述加热部件用于为所述外延托盘加热，

所述调节部件包括环形挡板，所述环形挡板的一端与所述反应腔的顶部相连，且所述环形挡板与所述外延托盘同轴间隔分布，所述环形挡板的内周壁与外周壁均为光滑柱面，所述环形挡板套在所述加热部件外，所述环形挡板位于所述外延托盘与所述加热部件之间。

2.根据权利要求1所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述环形挡板的轴向高度为8cm～10cm。

3.根据权利要求1所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述调节部件还包括与所述环形挡板同轴的环形钼罩，所述环形钼罩的一端与所述反应腔的底部相连，所述环形钼罩的外周壁与所述环形挡板的内周壁相贴，所述环形钼罩套在所述加热部件上。

4.根据权利要求3所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述加热部件包括加热丝与加热支架，所述加热支架与所述反应腔相连，所述加热丝与所述加热支架相连且所述加热丝位于所述加热支架与所述外延托盘之间，所述加热支架与所述环形钼罩的内周壁之间的距离为4～6mm。

5.根据权利要求4所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述外延托盘与所述加热丝之间的最小距离为9mm～10mm。

6.根据权利要求3～5任一项所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述调节部件还包括排气环，所述排气环的内周壁与所述环形钼罩的外周壁同轴相连，所述排气环的周向具有多个排气孔，所述排气孔与所述排气环的轴线之间的最小距离与所述环形钼罩的外径之差为2.5mm～3.5mm。

7.根据权利要求6所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述排气孔的直径为25～35mm。

8.根据权利要求6所述的金属有机化学气相沉积设备，其特征在于，所述多个排气孔沿所述排气环的周向等距间隔分布，相邻的两个排气孔之间的距离为23cm～26cm。

9.一种金属有机化学气相沉积设备使用方法，其特征在于，所述使用方法包括：

提供如权利要求1所述的金属有机化学气相沉积设备；

在所述金属有机化学气相沉积设备的外延托盘放置外延衬底；

向所述金属有机化学气相沉积设备的反应腔通入有机金属源与反应气体；

在所述外延衬底的表面生长外延结构。

10.根据权利要求9所述的金属有机化学气相沉积设备使用方法，其特征在于，以500～1250的生长转速生长所述外延结构。