[发明专利]室温自修复可拉伸透明电磁屏蔽材料及其制备方法

权利要求书

1.室温自修复可拉伸透明电磁屏蔽材料，其特征在于，由向具有高动态氢键的聚脲弹性体表面半嵌入银纳米线渗流网络制得，所述的聚脲弹性体的结构式如下：

2.根据权利要求1所述的室温自修复可拉伸透明电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，在氮气气氛下，将氨丙基封端的PDMS搅拌溶于有机溶剂中得到PDMS溶液，所述的有机溶剂为氯仿、丙酮或四氢呋喃；

步骤2，将六亚甲基二异氰酸酯和4’4-亚甲基双(异氰酸苯酯)混合溶于有机溶剂中，在氮气气氛下逐滴加入到PDMS溶液中，搅拌至混合均匀后反应，生成聚合物溶液；

步骤3，将聚合物溶液倒入模具中成型，干燥得到具有室温自修复功能的无色透明聚脲弹性体；

步骤4，抽滤银纳米线溶液，在滤膜上制成银纳米线涂层，加热聚脲弹性体，将滤膜覆盖在热的聚脲弹性体表面按压，使银纳米线渗流网络半嵌入聚脲弹性体中，得到室温自修复拉伸透明电磁屏蔽材料。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述的PDMS分子量为3000～5000Da。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述的六亚甲基二异氰酸酯和4’4-亚甲基双(异氰酸苯酯)的总摩尔量和氨丙基封端的PDMS的摩尔量相同。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤1和2中，所述的有机溶剂为氯仿、丙酮或四氢呋喃。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤2中，反应温度为55～-65℃，反应时间为12～48h。

7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤3中，干燥程序为先在室温下干燥6～12h，再在60℃下干燥12～24h。

8.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤4中，银纳米线涂层中，银纳米线的面积浓度为200～300mg/m²。

9.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤4中，加热温度为55～65℃。