[发明专利]一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂

权利要求书

1.一种用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，包括以下质量分数配比的原料：由纳米二氧化钛和聚乙炔组成的清洗催化剂3～8％，辛基酚聚氧乙烯醚(OPE)5％，脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)2.5％，N,N'-双油酰基乙二胺二乙磺酸钠(DTM)3％，乙二醇单丁醚(EB)5～12％，余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，所述清洗催化剂由30～60％的纳米二氧化钛和40～70％的聚乙炔组成。

3.根据权利要求2所述的用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，所述清洗催化剂由30～60％的平均粒径≤50nm的纳米二氧化钛和40～70％的聚乙炔组成。

4.根据权利要求3所述的用于清洗激光全息模压版的清洗剂，其特征在于，所述清洗剂在清洗激光全息模压版的方法包括以下步骤：

步骤一，在烘箱中把污损模压版加热至100℃，取出之后浸入清洗剂中，浸泡；

步骤二，采用紫外光照射模压版；

步骤三，在紫外光照射下，用超声波振荡清洗模压版，取出后用去离子水充分清洗，并放入100℃以上的去离子水中浸泡，随即在100℃的烘箱中干燥。