[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110985487.3 申请日: 2021-08-25
公开(公告)号: CN113629120A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 王玲玲;刘斌;黄灿;卢玉群;杨鸣 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 李娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,该显示面板包括:基底和位于基底上的遮光层;基底划分为显示区、边框区和镂空区,边框区围绕镂空区,显示区位于边框区远离镂空区的一侧;其中,边框区至少包括第一边框子区,基底位于第一边框子区的部分包括间隔设置的多个第一开口;遮光层在基底上的正投影至少覆盖第一边框子区,且遮光层填充第一开口。该显示面板的遮光层具有良好的遮光效果,以保证由显示面板制备的显示装置中的摄像头模组或者其它元器件的正常使用。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展,窄边框的显示产品越来越受到人们的欢迎。为了增大显示产品的屏占比,通常直接在显示产品的显示区增设开孔,并将摄像头模组或者其它元器件安装在开孔内,但经过显示产品的光线容易在开孔的内侧壁处泄露,影响摄像头模组或者其它元器件的正常使用。

目前,亟需一种新的显示面板,以解决上述问题。

发明内容

本申请的实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,该显示面板的遮光层具有良好的遮光效果,以保证由显示面板制备的显示装置中的摄像头模组或者其它元器件的正常使用。

为达到上述目的,本申请的实施例采用如下技术方案:

一方面,提供了一种显示面板,包括基底和位于所述基底上的遮光层;

所述基底划分为显示区、边框区和镂空区,所述边框区围绕所述镂空区,所述显示区位于所述边框区远离所述镂空区的一侧;

其中,所述边框区至少包括第一边框子区,所述基底位于所述第一边框子区的部分包括间隔设置的多个第一开口;

所述遮光层在所述基底上的正投影至少覆盖所述第一边框子区,且所述遮光层填充各所述第一开口。

在一些实施例中,所述显示区和所述边框区的所述基底均包括衬底和位于所述衬底上的第一平坦层,部分所述第一平坦层位于所述衬底和所述遮光层之间;

所述第一平坦层位于所述第一边框子区的部分包括间隔设置的多个第一隔离部,相邻两个所述第一隔离部之间的区域构成所述第一开口。

在一些实施例中,所述边框区还包括第二边框子区,所述第二边框子区位于所述第一边框子区和所述显示区之间;

所述第一平坦层位于所述第二边框子区的部分包括间隔设置的多个第二隔离部,相邻两个所述第二隔离部之间的区域构成第二开口;

其中,所述遮光层在所述衬底上的正投影至少与部分所述第二隔离部在所述衬底上的正投影交叠。

在一些实施例中,所述遮光层至少填充靠近所述第一边框子区的部分所述第二开口。

在一些实施例中,所述第二边框子区的所述基底还包括有机层,所述有机层位于所述第一平坦层远离所述衬底的一侧;

其中,所述有机层在所述衬底上的正投影与所述第二隔离部在所述衬底上的正投影交叠,且所述有机层填充所述第二开口。

在一些实施例中,所述遮光层在所述基底上的正投影覆盖所述边框区。

在一些实施例中,所述显示面板还包括第二平坦层和偏光层;

其中,所述第二平坦层位于所述遮光层远离所述基底的一侧,所述第二平坦层在所述基底上的正投影覆盖所述显示区和所述边框区,所述偏光层覆盖所述第二平坦层。

在一些实施例中,所述显示面板还包括第一无机保护层、发光层和第二无机保护层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110985487.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top