[发明专利]一种新型层析材料及其制备方法

权利要求书

1.一种新型层析材料，其特征在于，

1)核壳结构，所述核壳结构内部为实心球，外层为多孔壳层硅胶；

2)壳层由杂化硅胶组成，所述杂化硅胶层可通过表面杂化修饰或整体有机杂化实现；

3)壳层有相应的化学或物理的表面修饰。

2.根据权利要求1所述的一种新型层析材料，其特征在于，层析材料粒径范围2-100um，优选5-50um；孔径：50-1000A，优选300-800A；核壳结构至少包括1个或多个无孔实心核和纳米级孔径的壳层，实心核粒径大小为1-90um，壳层厚度为0.1-50um；杂化硅胶层同时含有硅碳键和硅氧键；壳层表面的化学修饰包括可和硅胶杂化层形成化学键的单体，包括但不限于十八烷基三氯硅烷辛烷三氯硅烷、三甲基氯硅烷、甲基三甲氧基硅烷、三氯硅乙基苯磺酰氯硅烷、氨丙基三甲氧基硅烷、极性苯基硅烷、氰基丙基二甲基氯硅烷、脲丙基三甲氧基硅烷、手性酰胺硅烷等本领域可以使用的所有硅烷及其他单体；壳层表面的化学修饰后再进一步或多步偶联修饰其他可结合的单体，包括但不限于羧基类天然多糖；氨基类天然多糖、ProteinA、DEAE、CM、SP、苯基、烷基、羧基等单体。

3.根据权利要求1所述的一种新型层析材料，其特征在于，壳层表面的物理修饰包括涂敷于硅胶杂化层的涂敷材料，包括但不限于天然多糖、纤维素、聚乙二醇等可用于涂敷的材料。

4.一种新型层析材料的制备方法，该新型层析材料的制备方法为：先制备实心核，对实心核进行SiO₂硅溶胶的多层涂敷和表面杂化或一步整体杂化，最后对杂化硅胶进行化学或物理的表面修饰。

5.根据权利要求4所述的一种新型层析材料的制备方法，其特征在于，所述层析介质包含至少1个或多个无孔实心核，且无孔实心核包含但不限于实心二氧化硅、实心二氧化锆、实心二氧化肽、四氧化三铁，所用于壳层涂敷的硅溶胶中SiO₂含量为5％-30％，直径为5-100nm，壳层涂敷次数5-30次。

6.根据权利要求4所述的一种新型层析材料的制备方法，其特征在于，表面杂化修饰是通过核壳硅胶表面的硅羟基与双官能团/三官能团有机硅烷在表面进行多层无机/有机缩聚，在硅氧烷网状构造中引入烷基链实现的。杂化硅胶层的整体有机修饰层是通过将预先合成的聚有机硅烷分散包覆于实心核外层实现的；杂化表面修饰所用单体为单、双官能团/三官能团有机硅烷结构式包括但不限于：R¹R²SiX、R¹R²SiX₂、R¹R²SiX₃，R¹和R²包含1或2个碳原子，X可以是Cl，OCH₃，OC₂H₅，(CH₃)₂N，(CH₃CH₂)2N，I，Br，CN，OOCH₃，O(CO)CH₃，核壳硅胶表面的硅羟基与双官能团/三官能团有机硅烷在表面进行多层无机/有机缩聚，在硅氧烷网状构造中引入烷基链。无机/有机缩聚层数为1-15次，即重复上述步骤1-15次。

7.根据权利要求4所述的一种新型层析材料的制备方法，其特征在于，杂化核壳硅胶、氨基或羧基硅烷加入甲苯溶液中回流反应，过滤，甲苯、甲醇清洗，真空干燥，羧基化或氨基化天然多糖加入乙醇中，EDC/NHS催化羧基和杂化核壳硅胶表面的氨基进行反应，避光室温搅拌，过滤，清洗，获得天然多糖修饰的杂化核壳硅胶。